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鋁銀漿高速濕法研磨分散機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱上海依肯機械設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CMSD
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2018/3/15 9:40:48
  • 訪問次數719
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  上海依肯機械設備有限公司是一家中德合作經營企業,依肯通過引進德國IKN技術和科學管理模式,形成了完整的研發、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術同步,同時擁有yi流的技術研究人才和生產能力,為中國及提供多元化的產品及技術服務。她已經發展成為中國流體高剪切混合設備行業的XX者。

       公司主要研發,生產制造,銷售流體領域的幾大系列:一乳化機,二 均質機,三分散機,四 膠體磨,五 乳化泵,六成套設備等系列。為混合、分散、均質、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領域提供高品質的解決方案,設備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國內的供應商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術,乳化均質,粉液混合技術和合理的配置方案,確保設備運行穩定的可靠性。她已廣泛應用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業、精細化工等領域,并成功為重點工程配套,部分產品返銷國外,取得了顯著的經濟效益和社會效益。
 

      “追求高品質”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標。上海依肯機械設備有限公司將以求實、創新的企業精神走向市場。在您在關注和支持下、她將以不斷發展壯大,在混合乳化設備制造的廣闊天地中散發出*的魅力。

乳化機,膠體磨,分散機,均質機,粉液混合機,實驗室儀器
結合客戶實驗案例,采用IKN濕法研磨機進行銀粉處理,不僅生產效率快,一般研磨5-10遍即可;而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言,物料損失更小。銀漿濕法研磨機,納米銀漿濕法研磨機,鋁銀漿高速濕法研磨分散機,銀漿管線式濕法研磨機,德國進口高速分散機
鋁銀漿高速濕法研磨分散機 產品信息

納米銀漿分散混合設備,納米銀粉分散,銀粉比表面積較大,易發生團聚很難分散,如何將銀粉制成銀漿?銀漿的制備,炭黑的制備,銀粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散機可幫您解決此類難題。結合客戶實驗案例,采用IKN濕法研磨機進行銀粉處理,不僅生產效率快,一般研磨5-10遍即可;而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言,物料損失更小。漿濕法研磨機,納米銀漿濕法研磨機,鋁銀漿高速濕法研磨分散機,銀漿管線式濕法研磨機,德國進口高速分散機

 

銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質要求是十分嚴格的。其品質的高低、含量的多少,以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關系。銀粉的分散效果直接關系到銀漿的質量。所以采用好的分散設備對銀粉的分散是至關重要的,當然分散劑的應用也是*的。

濕法研磨機CMSD2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外,CMSD在摩擦狀態下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉使溶液出現渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。CMSD2000整機采用*幾何機構的研磨定轉子,的表面處理和優質材料,可以滿足不同行業的多種需求。

 

1、是膠體磨和分散機的結合體,但產品效果又優于二者3、磨頭結構更精密并有*設計,使之研磨作用力更大,效果更好。

4、德國進口雙端面機械密封擁有*結構和特殊材質保證高速運轉和長使用壽命。

5、CMSD2000/5中試型研磨機與大型工業管線式量產機型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應線速度相同,中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整,從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到zui低。


高剪切濕法研磨機運行原理:

 

高剪切濕法研磨機的*級研磨頭部分的作用是在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區,通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎 區,在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區進行研磨破碎。精磨區分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經過三個精磨區的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

隨后物料被甩出經過第二級高剪切的分散盤中進行剪切分散,進一步細化物料粒徑,zui后得到均一,穩定的乳液。

轉速相較其它廠家2900轉左右高出三倍

CMSD2000/4為立式分體式結構,通過皮帶傳動,并實現加速,加速比為3:1即正常50HZ頻率下轉速為9000RPM,外加變頻可達140000RPM。CMSD2000/4分散頭直徑為55mm。

由此可得線速度(V=3.14*D(轉子直徑)*n/60

V1= 3.14*0.055*9000/60 =24M/S

V2=3.14*0.055*14000/60=40M/S

2.磨頭結構更精密并有*設計,使之分散作用力更大,效果更好。

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉子間距(m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 分散頭的線速率

– 轉子-定子間距

結合1,2中的數據可得:

F1=24/0.7*1000=32857S-1

F2=40/0.7*1000=57142S-1

普通轉速為3000RPM的機型大約在14293~21544S-1

 

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IKN濕法研磨機結構:

 

IKN濕法研磨機采用的是剪切研磨的方式,作用是對分子間作用力進行一個解聚的過程,從而保證了分子結構的完整性,zui大程度保留了其性能。

 

第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。這樣的設計可以保障物料初始顆粒較大時,可以順暢進入濕法研磨機腔體,通過高速旋轉的精細度遞升磨頭,zui終得到微納米級的物料顆粒。

 

第2級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉子和批次式機器的工作頭設計的不同主要在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

     

 

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