納米銀漿分散混合設(shè)備，納米銀粉分散，銀粉比表面積較大，易發(fā)生團(tuán)聚很難分散，如何將銀粉制成銀漿？銀漿的制備，炭黑的制備，銀粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散機(jī)可幫您解決此類難題。結(jié)合客戶實(shí)驗(yàn)案例，采用IKN濕法研磨機(jī)進(jìn)行銀粉處理，不僅生產(chǎn)效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對(duì)于三輥機(jī)以及砂磨機(jī)而言，物料損失更小。銀漿濕法研磨機(jī)，納米銀漿濕法研磨機(jī)，鋁銀漿高速濕法研磨分散機(jī)，銀漿管線式濕法研磨機(jī)，德國(guó)進(jìn)口高速分散機(jī)
銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機(jī)械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對(duì)其組成物質(zhì)要求是十分嚴(yán)格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對(duì)銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設(shè)備對(duì)銀粉的分散是至關(guān)重要的，當(dāng)然分散劑的應(yīng)用也是*的。
濕法研磨機(jī)CMSD2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CMSD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CMSD2000整機(jī)采用*幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
1、是膠體磨和分散機(jī)的結(jié)合體，但產(chǎn)品效果又優(yōu)于二者
3、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì),使之研磨作用力更大，效果更好。
4、德國(guó)進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長(zhǎng)使用壽命。
5、CMSD2000/5中試型研磨機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同，中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)到工業(yè)化的過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到zui低。
高剪切濕法研磨機(jī)運(yùn)行原理：
高剪切濕法研磨機(jī)的*級(jí)研磨頭部分的作用是在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級(jí)，越向外延伸一級(jí)磨片精度越高，齒距越小，線速度越長(zhǎng)，物料越磨越細(xì)，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬(wàn)次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬(wàn)次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。
隨后物料被甩出經(jīng)過第二級(jí)高剪切的分散盤中進(jìn)行剪切分散，進(jìn)一步細(xì)化物料粒徑，zui后得到均一，穩(wěn)定的乳液。
轉(zhuǎn)速相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出三倍
CMSD2000/4為立式分體式結(jié)構(gòu)，通過皮帶傳動(dòng)，并實(shí)現(xiàn)加速，加速比為3：1即正常50HZ頻率下轉(zhuǎn)速為9000RPM，外加變頻可達(dá)140000RPM。CMSD2000/4分散頭直徑為55mm。
由此可得線速度（V=3.14*D（轉(zhuǎn)子直徑）*n/60）
V1= 3.14*0.055*9000/60 =24M/S
V2=3.14*0.055*14000/60=40M/S
2.磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì)，使之分散作用力更大，效果更好。
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-轉(zhuǎn)子間距(m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 分散頭的線速率
– 轉(zhuǎn)子-定子間距
結(jié)合1，2中的數(shù)據(jù)可得：
F1=24/0.7*1000=32857S-1
F2=40/0.7*1000=57142S-1
普通轉(zhuǎn)速為3000RPM的機(jī)型大約在14293~21544S-1
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IKN濕法研磨機(jī)結(jié)構(gòu)：
IKN濕法研磨機(jī)采用的是剪切研磨的方式，作用是對(duì)分子間作用力進(jìn)行一個(gè)解聚的過程，從而保證了分子結(jié)構(gòu)的完整性，zui大程度保留了其性能。
第1級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽，定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離，在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。這樣的設(shè)計(jì)可以保障物料初始顆粒較大時(shí)，可以順暢進(jìn)入濕法研磨機(jī)腔體，通過高速旋轉(zhuǎn)的精細(xì)度遞升磨頭，zui終得到微納米級(jí)的物料顆粒。
第2級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉(zhuǎn)子和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
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