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離子濺射儀NE-900

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱深圳納恩科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/4/9 11:34:31
  • 訪問次數254
產品標簽:

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納恩科技始創于2010年,總部位于深圳市,在香港設有研發分公司,是一家專注于等離子材料表面清洗處理、真空鍍膜技術和智能裝備研發,制造和銷售的高科技公司。目前主要產品包括真空等離子清洗機,磁控濺射鍍膜設備,離子濺射儀,等離子刻蝕設備,等離子表面處理設備,輝光放電儀等。公司核心研發團隊來源于香港大學等離子實驗室,香港理工大學材料工程學院和美國佐治亞理I學院的微電子學院。自成立以來,納恩科技圍繞等離子處理系統所需核心電源及底層算法進行技術布局,不斷拓展自主設計能力。目前已完成以MCU, ARM為核心的射頻芯片開發平臺,實現了芯芯的結構化和模塊化開發。具有高精度模擬、網絡阻抗匹配、功率驅動、功率器件、射頻和底層核心算法的設計能力,可針對不同細分領域等子處理系統需求,快速做出底層硬件組合,提高等離子系統的穩定性和效率。公司著眼于化的戰略布局,目前在北京、上海、 成都,廈門均設立辦事處,在新加坡,尼黑設有辦公聯絡處。納恩科技以前沿的創新理念、的核心技術在我國制造裝備行業扮演著關鍵角色,公司堅持負"推動產業進步、保障國防安全、提升生活品質”這一神圣使命,致力成為的等離子技術處理方案供應商,在世界高科技舞臺的同場競技之中,續寫中國等離子產業發展的新傳奇!
離子濺射儀NE-900依據二極(DC)直流濺射原理
離子濺射儀NE-900 產品信息
離子濺射儀NE-900依據二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調整控制器、微型真空氣閥在工作時結合內部自 動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層均勻純凈。

離子濺射儀NE-900產品特點:


1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。
2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達到更細顆粒的涂層。 6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。


型號 離子濺射儀NE-900
主機規格 300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極) 50mm×0.1mm(D×H)
靶材 Au(標配)
樣品室 硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸 Ф 50mm
真空指示表 真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表 電流:50mA
定時器 最長時間:0-360S
微型真空氣閥 可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體 多種
電壓 -1600 DCV
機械泵 標準配置 2L/S(國產 VRD-8)

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