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Quantera II 掃描XPS探針

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公司名稱上海德竹芯源科技有限公司
品牌
型號Quantera I
所在地上海
廠商性質其他
更新時間2023/9/13 9:42:14
訪問次數246

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公司介紹主營產品

上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領域的設備銷售、系統(tǒng)集成、設備國產化的公司。主要為高校、研究所、中試量產線及晶圓FAB廠提供半導體工藝設備、檢測設備、封裝設備、測試設備。目前公司已成為國內少數幾家專業(yè)提供半導體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復旦大學、上海微系統(tǒng)所等半導體相關專業(yè)博士，擁有一支經驗豐富、技術過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務。目前公司已與眾多國際半導體設備企業(yè)建立了良好的合作關系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據用戶的科研方向和量產的器件類別提供相應的全套設備選型和工藝整體解決方案。

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產品簡介在線詢價

PHI Quantera II 掃描XPS探針是 ULVAC-PHI 公司新研發(fā)的XPS分析儀器，是在 Quantum 2000 和 Quantera SXM 的基礎上延伸出來的，其革命性技術包括有：聚焦掃描X射線源，的雙束中和技術，在非常低的電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行XPS的深度分析，一個精密的五軸樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂，以及一個自動化且可支持互聯(lián)網遠程控制的儀器操作平臺。Quantera II 增加了這些技術性能，提高了生產力，再一次提供了高性能的XPS系統(tǒng)，以滿足您當前和未來的XPS需要。

Quantera II 掃描XPS探針產品信息

優(yōu)點

操作簡單

● 無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等，儀器所有的設置和設定都是相同的。操作者只需用鼠標在樣品的光學圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域，打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調整功能，就可通過儀器軟件的自動隊列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設定調整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可自動完成。

圖1 - 全自動無人值守，分析無憂的XPS Quantera II

薄膜分析

● Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C₆₀離子槍對有機薄膜得出非常*的深度分析結果。

圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導體封裝的錫球表面進行深度分析；

(右) 使用10 keV C₆₀離子源，對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。

掃描 XPS探針

● PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產生的，由此產生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當電子束掃描在鋁陽極上時，所產生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。

圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標樣所生的二次電子像，可見

以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。

微區(qū)光譜

● 以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內，Quantera II 儀器就可利用一個直徑為 20 微米的X射線束對污染物成分進行分析，從而確定為氟碳污染物。

圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳）。 (e) 對較小的污染做點分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。