Saphir Vibro振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設計,是用于進*步材料表征,如EBSD(背散射電子衍射),AFM (原子力顯微鏡)分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設備。
產品特點
1) 可快速更換的帶磁性系統的拋光池
2) 從60-120 Hz的自動頻率控制
3) “Surface-Guard”功能降低試樣磨料結晶和試樣表面腐蝕的機率
4) 預先安裝*的制備方案和耗材清單
5) 低工作噪音和吸振式結構設計
6) 軟閉合式防護罩和排氣接口
7) 可存儲多達200個制備程序
性能參數
拋光池內徑 | 308 mm |
拋光布直徑 | 300 mm / 305 mm (12“) |
接口 | socket (depending on the configuration) · USB · Ethernet |
排氣接口 | ? 40 mm |
環境溫度 | 10 - 40 °C |
IP 碼 | IP 22 |
技術參數
連接功率 | 0.25 kVA |
驅動功率 | 135 VA |
電源 | 220-240 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) 100-120 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) |
寬 x高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 (取決于設備) | ≈ 45 kg |