UV光解主要工藝段技術原理：
*，紫外線是由電磁波組成，其本身所帶有的能量與波長直接有關，波長越短，能量越大。通過采用D波段內的真空紫外線（波長范圍170~184.9nm），照射有機氣體或惡臭氣體分子，當這些氣體分子吸收了這類紫外線光后，因紫外線光本身所帶有的能量，使有機氣體或惡臭氣體分子內部發生裂解，化學鍵斷裂，形成游離狀態的原子或基團（C*、H*、O*等）。同時，混合氣體中的氧氣被紫外線光裂解形成游離的氧原子并結合生成臭氧【UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)】；混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解產生羥基【UV H2O→H OH-(羥基)】，而這些生成的臭氧和羥基具有*的氧化性，可將廢氣分子裂解產生的原子和基團（甚至是有機氣體或惡臭氣體分子）氧化成H2O和CO2等無污染的低分子化合物。另外，利用高能紫外線光束可裂解惡臭氣體中細9菌的分子鍵，破壞細8菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺菌的目的。
