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上海伯東代理美國 KRI 霍爾離子源 eH 1000

參考價	￥ 420000
訂貨量	≥1臺

具體成交價以合同協議為準

公司名稱伯東企業（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地上海市
廠商性質其他
更新時間2024/5/3 15:00:40
訪問次數142

產品標簽:

離子槍霍爾離子源離子源 eH 1000 KRI 離子源發散型離子源

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公司介紹主營產品

伯東公司成立于1953 年，范圍內有一千七百名員工。伯東企業(上海)有限公司()主要從事半導體設備、電子零部件加工、銷售及相關服務工作，集團年營業額約為100億人民幣。伯東公司在國內主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設有營業據點。上海伯東真空產品事業部秉承為廣大中國客戶提供的真空產品、推動中國真空工藝發展、承擔企業社會責任為經營理念，已累計為超過10,000家企業提供真空服務，覆蓋工業、半導體、鍍膜、科研和分析行業。上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環測試機，離子蝕刻機，真空鍍膜系統及配套真空零配件等。上海伯東作為國際真空品牌代理商，全權負責在中國地區的銷售和維修服務，99% 使用原廠進口零部件以及國外受訓維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時在線服務。

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產品簡介在線詢價

上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機氣體

上海伯東代理美國 KRI 霍爾離子源 eH 1000 產品信息

KRI 霍爾離子源 eH 1000
上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 1000, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便; 無需水冷
• 等離子轉換和穩定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術參數:

型號	eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-300V VDC
- 離子源直徑	~ 5 cm
- 陽極結構	模塊化
電源控制	eHx-30010A
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 離子束發散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標準或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	4.0'
- 直徑	5.7'
- 加工材料	金屬電介質半導體
- 工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	10-36”
- 自動控制	控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 1000 應用領域:
• 離子輔助鍍膜 IAD
• 預清洗 Load lock preclean
• 預清洗 In-situ preclean
• Direct Deposition
• Surface Modification
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生