KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長(zhǎng)度高達(dá) 1 米, 通過(guò)嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡(jiǎn)化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標(biāo)準(zhǔn)的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡(jiǎn)化, 一個(gè)低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉(zhuǎn)濺射系統(tǒng).
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
供電 | DC magnetic confinement |
- 電壓 | 40-200V VDC |
- 陽(yáng)極結(jié)構(gòu) | 模塊化 |
電源控制 | eHL-30010A |
配置 | - |
- 陰極中和器 | Filamentless |
- 離子束發(fā)散角度 | > 45° (hwhm) |
- 陽(yáng)極 | 標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved |
- 底座 | 移動(dòng)或快接法蘭 |
- 高度 | 10 cm |
寬度 | 10 cm |
- 長(zhǎng)度 | ~ 100cm |
-工藝氣體 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
Model | eHL 200-3 | eHL 200-5 |
Height (nominal) | 2.9” (7.4cm) | 2.9” (7.4cm) |
Width (nominal) | 3.3” (8.4cm) | 3.3” (8.4cm) |
Length (nominal) | Determined by number of modules & application | Determined by number of modules & application |
Cathode/Neutralizer | Yes | Yes |
Anode module | Yes | Yes |
Filamentless | Yes | Yes |
Orientation | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal |
Process gases | Inert, reactive, & organic | Inert, reactive, & organic |
Power controller | eH Plasma Power Pack | eH Plasma Power Pack |
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.
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上海伯東: 羅先生
