ICP等離子發(fā)射光譜儀SPECTRO GENESIS
應(yīng)用SPECTRO側(cè)向等離子體接口(SPI?)的側(cè)向觀測等離子體用于高濃度和主成分檢測、高固含量和有機(jī)物分析,可以提高線性范圍、準(zhǔn)確度和精度。
利用優(yōu)化的層流、低流速吹掃機(jī)理的SPI保證光路中無氧氣、減少對紫外區(qū)波長的吸收。這個技術(shù)可保證易維護(hù)的入射光學(xué)組件不受污染,使得175-190nm光譜范圍的譜線的穩(wěn)定和超常的靈敏度。
用于工業(yè)分析的工廠預(yù)校準(zhǔn)分析方法包。下面是可供選擇的方法包:
工業(yè)廢水(只有基本的方法)、污泥、土壤、油品中磨損金屬/添加劑、礦石、金屬材料
ICP等離子發(fā)射光譜儀SPECTRO GENESIS分光系統(tǒng):
恒溫在+30?C ? 0.1?C;中空防熱彭脹雙帕邢-龍格羅蘭圓設(shè)計;焦距400mm;全息凹面原光柵,刻線密度2400刻線/mm;石英光學(xué)部件;全部是1級波長覆蓋;波長范圍:175 - 777 nm;入射狹縫:15 μm
檢測器:
根據(jù)所在波長精心選擇并進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計的15個線性CCD連續(xù)排列在羅蘭圓上;分辨率14pm;與光學(xué)系統(tǒng)一樣恒溫在;動態(tài)范圍為108,全波長覆蓋,ICAL自動標(biāo)準(zhǔn)化
紫外系統(tǒng):
氬氣吹掃系統(tǒng), 佳化低流量吹掃(只在分析190nm以下元素時使用)
高頻發(fā)生器:免維護(hù)型,頻率為27.12MHz,發(fā)生器功率:0.7 to 1.7 kW
進(jìn)樣系統(tǒng)及炬管單元
• Lock-in-Place快速換裝設(shè)計
• Gas flows under full computer control氣體流量全部由計算機(jī)控制
o Plasma gas等離子氣 : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas輔助氣 : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas霧化氣 : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments
• 計算機(jī)控制4速、3通道、12滾軸進(jìn)樣蠕動泵