IMA™高光譜顯微成像系統，400~1620nm，光學分辨率<2nm
加拿大Photon ect生產的 IMA™高光譜成像顯微鏡可提供400 nm~1620 nm范圍內的光譜和空間信息, 光學分辨率<2nm，這種高光譜顯微鏡搭配高效率的分析系統，可快速繪制光致發光、電致發光、熒光等圖像，顯示反射率和透射率等參數，是一種高效率的400~1620nm熒光高光譜成像系統和暗場高光譜顯微成像系統。
IMA™高光譜顯微成像系統可以用于多路復用系統，如下圖所示，透明玻璃上的碳納米管顯示出17種假色圖樣，分別對應17種不同的波長。
IMA納米高光譜顯微成像系統可以不均勻材質的缺陷識別。左下圖代表了鈣鈦礦分子用C60作為電子傳輸層，C60電致發光分裂衍生的準費米能級的映射；右下圖代表了當前傳輸效率的映射。
Photon ect的高光譜暗場顯微鏡可進行樣品生長和降解的研究。例如下圖表示鈣鈦礦晶體的光致發光中心波長在770nm的黑白和假色圖，以及分別對應的高光譜數據。
IMA高光譜成像儀可用于細胞標記。如下A圖代表60nm的金納米顆粒標記的人類乳腺癌細胞的暗場圖像，B圖代表60nm的金納米顆粒標記的人類乳腺癌細胞在550nm處的圖像，C圖代表乳腺癌細胞的圖像，D圖代表金納米顆粒在不同區域的光譜。
加拿大Photon ect的IMA高光譜暗場顯微鏡規格：
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| VIS-SWIR型號 400~1620nm |
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| 光學規格 | VIS 400~1000nm | SWIR 900~1620nm |
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| 光學分辨率（FWHM） | < 2 nm | < 4 nm |
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| 光譜通道 | 連續可調 |
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| 空間分辨率 | 亞微米（受顯微鏡物鏡限制） |
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| 相機 | CCD，EMCCD，sCMOS | Photon ec公司的InGaAs相機 （ZephIR™1.7或Alize™1.7） |
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| 激發波長（高達3個） | 405，447，532，561，660，730，785，808nm（其他波長可定制） |
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| 顯微鏡特點 | 科研級別的產品，可正放或倒放 |
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| 波長分辨率精度 | FWHM/8 |
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| 掃描速度 | 單波長150 ms |
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| XY方向的行程 | 76mm×52mm（搭配手動臺） |
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| Z軸分辨率 | 100nm |
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| 白光照明 | 透射、反射，汞、鹵素 |
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| 照明選項 | 熒光模式，暗場模式（有性或干性） |
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| 視頻模式 | 百萬像素攝像頭，且樣品可視化 |
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| 數據處理 | 空間濾波，數據統計，光譜提取，數據歸一化， 光譜標定，光譜疊加，中心位置圖 |
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| 高光譜數據格式 | HDF5，FITS |
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| 軟件配置 | 電腦（Windows 10-64 bits）,PHySpec™控制分析軟件（含電腦） |
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| 尺寸 | ≈150cm×85cm×82cm |
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| 重量 | ≈80kg |
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| 電源配置 | 120VAC/12A/60Hz、230VAC/12A/50Hz |
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| 附件及可選項 | 物鏡放大率 | 10×，20×，40×，50×，60×，100× | |
| 光譜范圍延伸 | 例如UV選項中FWHM=10nm | ||
| 電動臺 | 行程100mm×100mm，分辨率22nm | ||
| 濾光輪 | 6個帶通濾波器 | ||
| 電致發光模塊 | |||
| 第二個相機接口 | |||
| 光度校準 | |||
| 高分辨率模塊：900nm~1620nm（FWHM<1 nm） | |||
| 光學臺建議搭配氣升式防震臺； 900mm×1800mm×60mm（36''×72''×2.4''）或 900mm×900mm×60mm（36''×36''×2.4''）光學臺緊挨著標準的900mm×900mm×60mm（36''×36''×2.4''）光學臺 | |||
Photon ect的IMA高光譜顯微成像系統特點和優點：
-圍包含可見光、近紅外、短波長紅外范圍（400~1620nm）
-快速繪制光致發光、電致發光、熒光成像圖像，顯示反射率、透過率參數
-系統更高效
IMA高光譜成像顯微鏡應用：
-生物化學和納米傳感器（單壁碳納米管的多路復用或近紅外染料或熒光）
-金納米粒子暗場成像
-鈣鈦礦（CIS）、銅銦鎵硒（CIGS）、硅（Si）、碳化硅（SiC）等光譜和空間分析
-同側光譜分析
- GaAs準費米能級映射
