2：1紫外制版鏡頭 |
光刻物鏡是微電子生產投影式光刻機的核心部件，隨著微電子生產工藝不斷向微細化、集成化發展，對光刻鏡頭的要求越來越高。要求具有衍射極限的成像質量、高分辨力、大視場、小畸變，其性能直接決定了光刻機的圖形傳遞能力。制造光刻鏡頭除了設計出一個成像完善的光學系統和精選優質的光學玻璃外，關鍵在于光學加工、結構設計裝配以及相關的測試技術等。
基本參數 |
物方視場: 12mm X 12 mm；
放大倍率: 2X (可微調 0.1%),調整后鎖緊；
像方尺寸: 22mm X 22 mm；
物方數值孔徑: 0.25；
物像光路類型：物、像遠心光路；
物方工作距離: > 75 mm；
設計波長范圍: 390~ 415 nm；
透過率: > 85% @ 350nm ~ 450nm；
像質要求 |
所有視場內MTF: > 0.3 @ 200 lp/mm；
畸變: 0.02%；
要求物,像遠心光路: 主光線傾角<0.1 度；
放大倍率誤差: 0.03%；
其它參數 |
外徑: < 90 mm；
透鏡長度: < 170 mm；
中間固定螺孔為: 6-M4 X8圓周均布，Φ68；
兩端螺紋為: M72X0.75 長度12mm；
M50X0.75 長度11.5mm；
鍍增透膜波長范圍: 350nm ~ 450nm；
物像共軛距: <390mm；
