反滲透系統(tǒng)需要哪些常用儀表  ：

為了使RO裝置能安全可靠的運(yùn)行，便于運(yùn)行過程中監(jiān)控，應(yīng)該裝置必要的儀表和控制裝置，一般需要裝設(shè)的儀表有溫度表、流量表、壓力表、電導(dǎo)率表、氧化電位儀表、氯表、pH表，具體如下：
1.      溫度表：
給水溫度表，因產(chǎn)水與溫度有關(guān)，所以需要檢測(cè)，以便求出標(biāo)準(zhǔn)化后的產(chǎn)水量，大型設(shè)備應(yīng)進(jìn)行記錄，另外，溫度超過45℃會(huì)損壞膜元件，所以對(duì)原水加熱器系統(tǒng)應(yīng)設(shè)超限警報(bào)，超限自動(dòng)排水和停運(yùn)RO保護(hù)。
2.      壓力表：
給水壓力表、*段RO出水壓力表、排水壓力表用于計(jì)算每一段的壓降，并用于對(duì)產(chǎn)水量和鹽透過率進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化。鹽透過率、產(chǎn)水量和Δp用于RO性能問題的分析。
5um過濾器要安裝進(jìn)出口壓力表，當(dāng)壓降達(dá)到一定值時(shí)，就需要更換濾芯。
給水泵進(jìn)出口壓力表，進(jìn)出口壓力開關(guān)用于在進(jìn)口壓力低時(shí)關(guān)泵，在出口壓力高時(shí)停泵。
3.      流量表：
產(chǎn)品水流量表在運(yùn)行中檢測(cè)產(chǎn)水量，每段應(yīng)單獨(dú)裝設(shè)，以便于標(biāo)準(zhǔn)化RO性能數(shù)據(jù)。產(chǎn)品水流量應(yīng)有指示，累計(jì)和記錄。濃水排水流量表在運(yùn)行時(shí)檢測(cè)排水量，應(yīng)有指示累計(jì)和記錄。從各段產(chǎn)品流量和排水流量可以算出分段的給水量、回收率和整個(gè)RO 的回收率，給水流量表主要用于RO加藥量的自動(dòng)調(diào)節(jié)，除指示累計(jì)外還要給與信號(hào)用于比例調(diào)節(jié)。
4.      電導(dǎo)率表：
給水電導(dǎo)率表、產(chǎn)水電導(dǎo)率表指示、記錄水的電導(dǎo)率：可設(shè)置警報(bào)，從給水電導(dǎo)率和產(chǎn)水電導(dǎo)率可以算出脫鹽率。
5.      pH表
當(dāng)給水需加酸防止CaCO3形成垢時(shí)，加酸后的給水需裝設(shè)pH表。
6.      氯表
給水裝設(shè)氯表，控制進(jìn)水氯含量。
7.      氧化電位儀表
經(jīng)加亞硫酸氫鈉消除余氯的給水應(yīng)裝設(shè)氧化還原點(diǎn)位表，應(yīng)有指示記錄、超限報(bào)警。

反滲透進(jìn)水要注意的要素 
細(xì)菌：可以使用加氯殺菌消毒，但余氯含量不可超過0.1mg/L，否則會(huì)氧化膜元件，余氯可以采用偏亞硫酸鈉或活性炭去除氯，在有溶解氧的情況下1kg氯需要3kg偏亞硫酸鈉，水溫低和pH較低時(shí)殺菌效果比較好，
鐵含量：鐵的氧化速度取決于鐵的含量，水中溶解氧的濃度和pH值，pH越高氧化速度越快，因此，降低pH值可以防止氧化，給水zui大允許含鐵量和含氧量和pH值的關(guān)系如下表：
 
氧含量mg/L
pH值
允許鐵含量mg/L
＜0.5
＜6.0
4.0
0.5-5
6-7
0.5
5-10
＞7
0.05

真空脫氣機(jī)介紹:研究表明，90%以上的采暖循環(huán)、制冷循環(huán)系統(tǒng)及太陽能系統(tǒng)都要受到空氣問題的嚴(yán)重困擾，主要問題有：氣蝕對(duì)水泵和閥門的損傷、氣體存在引發(fā)的管路和設(shè)備腐蝕、系統(tǒng)噪音和氣阻、降低供熱和制冷效率等。固德GD-TQ20型噴射式真空脫氣裝置，做為專業(yè)研發(fā)的脫氣設(shè)備，可以自動(dòng)進(jìn)行*排氣，幾乎能夠*排除系統(tǒng)內(nèi)的所有氣體，有效解決循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)空氣引發(fā)的各類問題，保障系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行、延長設(shè)備使用壽命、節(jié)省用戶投資。

真空脫氣機(jī)工作原理:常用的脫氣方式主要有錨式攪拌脫氣、薄膜脫氣和真空噴射式脫氣，相比較而言，噴射式真空脫氣具有簡便，運(yùn)行可靠，投資小等優(yōu)點(diǎn)。固德GD-TQ20型噴射式真空脫氣裝置主要由自動(dòng)控制系統(tǒng)、真空罐、單向自動(dòng)排氣閥、循環(huán)泵等組成，脫氣裝置啟動(dòng)后，系統(tǒng)內(nèi)的循環(huán)水進(jìn)入真空罐內(nèi)并注滿后，循環(huán)泵開啟，將罐內(nèi)的水抽取并重新注回到系統(tǒng)，此時(shí)真空罐內(nèi)會(huì)形成真空，當(dāng)系統(tǒng)水被再次注入真空罐的時(shí)候，根據(jù)亨利定律，這部分水中所含氣體會(huì)被*分離出來，分離出來的氣體會(huì)聚集在真空罐頂部并通過罐體頂部的單向排氣閥排除，而被脫出了氣體的水則變成了具有高度吸收性的不飽和水重新注回系統(tǒng)，這些不飽和水回到系統(tǒng)后，將再次吸收系統(tǒng)中的氣體來達(dá)到氣水溶解度平衡，如此循環(huán)往復(fù)，直到系統(tǒng)內(nèi)的游離氣體和溶解氣體則被*排除。

顆粒物質(zhì)：不允許大于5um的顆粒物質(zhì)進(jìn)入高壓泵及反滲透組件，這一點(diǎn)必須確保，以免損壞設(shè)備。
SDI和濁度：SDI必須小于5，越小越好，濁度應(yīng)小于0.2NTU（zui大允許1NTU）。
油和脂：水中不允許含有油和脂。
有機(jī)物：水中的有機(jī)物對(duì)RO膜的影響zui為復(fù)雜，可以使用活性炭過濾降低有機(jī)物濃度。
SiO2：濃水中不允許析出SiO2，當(dāng)其過飽和則可能聚合而形成不溶解的膠體硅或者硅膠而引起結(jié)垢。
25℃時(shí)，無定型硅的溶解度為100mg/L，溶解度隨溫度呈直線變化，在0℃時(shí)為0mg/L，在40℃時(shí)增加到160mg/L，在中性pH下溶解的只是硅膠，在堿性溶液下，無定型的溶解度較中性溶液大，主要原因是由于硅酸電離，然而在有鋁出現(xiàn)時(shí)，溶解度可能降低很多，原因是由于硅酸鋁的溶解度極小。
       降低SiO2含量可以通過控制系統(tǒng)回收率；采用石灰軟化或在澄清池多加些氯化鐵、鋁酸鈉；還可以通過溫度控制。
防垢：必須防止CaCO3、CaSO4、BaSO4、CaF2垢。
一般通過降低系統(tǒng)回收率，避免超過溶度積；采用離子交換軟化去除鈣離子；加酸去除碳酸或重碳酸離子；加阻垢劑。
水溫：反滲透膜多水溫均有一定的要求，復(fù)合膜一般進(jìn)水水溫控制在0-45℃。
zui高進(jìn)水壓力：反滲透膜組件對(duì)進(jìn)水的zui高壓力有一定的要求。
每支膜的zui高進(jìn)水量：反滲透膜對(duì)zui高進(jìn)水量有一定的要求，具體見設(shè)計(jì)手冊(cè)。
濃水和透過水量之比：考慮到膜的納污等方面因素，每支膜的濃縮水和透過水量有一定的要求。