工業廢氣利用排風設備輸入到MX-UVEP光解氧化處理模塊后，凈化設備運用高能UV 紫外線光束及臭氧對廢氣進行協同分解氧化反應，使廢氣中的惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。具體地來說就是，MX-UVEP光解氧化處理模塊利用高能UV 紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。
利用220v低電壓高強度的寬波幅光光子管發出特定波段能量均衡的雙波段光(185nm,254nm)照射廢氣,裂解廢氣中如:氨,*胺,硫化氫,甲硫氫,甲硫醇,甲硫醚,二甲二硫,二硫化炭,苯乙烯,VOC類,使有機或無機高分子污染物分子鏈,在高能紫外線光束照射下裂解,氧化成小分子化合物。
利用UV高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產生的游離氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧氣分子結合，進而產生臭氧。
MX-UVEP光解氧化處理模塊利用高能高臭氧UV 紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體中氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物 H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物，如 CO2、H2O 等。
其反應式為：
UV+O2→O+O(游離氧) O或O+O2→O3（臭氧）
運用高能UV高能紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物，水和二氧化碳，再通過風管排出。
UV光解催化氧化工藝流程
廢氣通過風機輸送至裝置內，在裝置產生的強氧化性物質（臭氧）和紫外線及催化劑作用下，被迅速裂解，氧化，降解成低分子化合物，水和二氧化碳，降解產生的小分子及未反應的臭氧在zui后的堿吸收化學塔中的被洗滌除去，實現達標排放。
UV光解廢氣凈化設備在波長范圍在高能紫外線的作用下，一方面空氣中的氧氣成分會被裂解，然后經過組合后產生臭氧；另一方面可以將惡臭氣體中的化學鍵斷裂，使之構成游離態的原子或基團；同時產生的臭氧參與到反響過程中，使惡臭氣體凈化后zui終被裂解、氧化生成簡單并且穩定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等。
運用uv光解廢氣凈化原理設計的UV光解廢氣凈化設備，運用高能UV紫外線光束、催化氧化法、臭氧及催化劑對惡臭氣體停止協同合成氧化反響，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，*到達脫臭及殺滅細菌的目的。
應用范圍：
光解凈化器主要運用于油漆噴涂、化工業、造紙業、制藥業、輪胎及橡膠生產廠、汽車生產、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業、印刷廠、香料生產業、飼料及飼養場、農藥生產以及煙草業等等多個領域的有毒有害氣體、異味和惡臭有機廢氣處理。
MX-UVEP光解氧化處理模塊利用高能UV紫外線光束裂解惡臭氣體中細菌分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。
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