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天津天有利科技有限公司
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三溫區PECVD系統
三溫區PECVD系統
產品描述：
該爐由TL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統、抽氣系統、真空測量系統組成。采用雙層殼體結構，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時真空度能夠達到10-3Pa。該爐安裝有行程開關，當爐蓋打開時會自動切斷電源。該爐通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高所需的溫度更低。
技術參數：
1.額定溫度：1100℃ 2.溫度：1200℃ 3.電壓：220V
4.加熱段：205mm+205mm 5.溫控方式：智能化30段可編程控制 6.熱電偶：K型
7.加熱元件：瑞典Kanthal-A1電阻絲
8.升溫速率：≤30℃/min 推薦升溫速率：≤15℃/min
9.等離子射頻電源：輸出功率：50-500w可調±1% 穩定性
頻率：13.56MHz ±0.005%
噪聲：<50dB
冷卻：空氣冷卻
輸入功率：AC 220V，500W
10真空泵和閥門：采用KF25系列波紋管和精密球閥連接
真空度可達10-3Pa
數字真空壓力表可直觀的顯示數值
11.質量流量計：內部裝有高精度數字顯示質量流量訓科準確的控制氣體流量
氣體流量范圍為0-200sccm，誤差：0.02%
一個氣體攪拌罐上安裝了液體釋放閥的底部情況
不銹鋼針閥安裝在左側可手動控制混合氣體輸入的數量
進氣口：采用國際標準雙卡套接頭
型號 | TL1200-1200-1200-PE-I | TL1200-1200-1200-PE-II | TL1200-1200-1200-PE-III |
爐管尺寸 | Φ60X1500 | Φ80X1500 | Φ100X1500 |
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