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山東安尼麥特儀器有限公司
產品簡介旋轉涂膜機簡稱旋涂機適應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆
產品簡介
旋轉涂膜機簡稱旋涂機適應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆。該產品具有轉速穩定和啟動迅速等優點,并能保證半導體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。通常配無油真空泵一起使用。
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