■采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好。
■提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便。
■顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展積木化。
■工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性。
■廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質
BH200M金相顯微鏡
■采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好。
■提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便。
■顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展積木化。
■工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性。
■廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域。
技術規格：
型號 | BH200M | BH200MS |
轉換器 | 四孔轉換器 | 五孔轉換器 |
透射底光 | 無 | 6V30W透射照明系統 |
光學系統 | 有限遠色差校正光學系統 |
觀察筒 | 鉸鏈式雙目，30°傾斜，360°旋轉，瞳距調節范圍：54-75mm，雙邊±5屈光度可調；（選配）鉸鏈式三目，固定式分光比，雙目:三目=80%:20% |
目鏡 | PL10X高眼點平場目鏡，線視場 18mm |
物鏡 | 長工作距平場消色差金相物鏡5X、10X、20X、50X、100X（選配） |
調焦機構 | 粗微調同軸，帶機械上限位和松緊調節裝置, 粗調行程28mm，微調精度0.002mm |
載物臺 | 雙層機械移動平臺,附設180X145mm平板平臺, 移動范圍：76mmX50mm |
照明系統 | 反射式柯拉照明，自適應寬電壓90V-24V，6V/30W鹵素燈，光強連續可調,帶可變孔徑光闌與視場光闌,視場光闌中心可調 |
攝像裝置 | 0.35X/0.5X/1.0X C型攝像接筒 |
