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摻釔氧化鋯(YSZ)晶體基片

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所在地西安市

更新時間:2021-06-23 17:52:46瀏覽次數:491次

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摻釔氧化鋯(YSZ)晶體基片
摻釔氧化鋯(YSZ)單晶基片是早應用于高溫導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學、成本低的特點。由于氧化鋯材料具有高硬度,高強度,高韌性,的性及耐化學腐蝕性等等的物化性能,氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等領域獲得的應用。

摻釔氧化鋯(YSZ)晶體基片

 摻釔氧化鋯(YSZ)單晶基片是早應用于高溫導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學、成本低的特點。由于氧化鋯材料具有高硬度,高強度,高韌性,的性及耐化學腐蝕性等等的物化性能,氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等領域獲得的應用。

主要性能參數

晶體結構

立方

晶格常數

a=5.147 Å 

熔點(℃)

2700

密度(g/cm3

6.0

硬度

8-8.5(mohs)

純度

99.99%

熱膨脹系數(/℃)

10.3×10-6

介電常數

ε=27

生長方法

弧熔法

尺寸

10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,

 

dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

厚度

0.5mm,1.0mm

拋光

單面或雙面

晶向

<001>±0.5º

晶面定向精度:

±0.5°

邊緣定向精度:

2°(要求可達1°以內)

斜切晶片

可按某些需求,加工邊緣取向的晶面按某些角度傾斜(傾斜角1°-45°)的晶片

供應產品目錄:

 

MoWS2 鉬鎢硫晶體MoWS2 crystals
MoS2 二硫化鉬晶體 (小尺寸>10mm*10mm)MoS2 crystals
MoS2 二硫化鉬晶體 (中尺寸>15mm*15mm)MoS2 crystals
MoS2 二硫化鉬晶體 (大尺寸>20mm*20mm)MoS2 crystals
MnPS3 晶體MnPS3 crystals
HfS2 硫化鉿晶體HfS2 (Hafnium Disulfide)
CuS 晶體CuS crystals
SnS2 二硫化錫晶體 (Tin Disulfide)
TaS2 (2H-phase) 2H-二硫化鉭晶體TaS2 (2H-phase)
MoS2 二硫化鉬晶體(合成)MoS2 crystals
PbSnS2 硫化錫鉛PbSnS2 crystals
ZrS3 三硫化鋯晶體ZrS3 crystals
Sb2S3 硫化銻晶體(Antimony sulfide)
FePS3 硫化磷鐵晶體FePS3 crystals
SnS crystals 硫化錫晶體SnS crystals
TaS2 (1T-phase) 1T-二硫化鉭晶體TaS2 (1T-phase)
MnPS3 硫化磷錳晶體MnPS3 crystals
Sb2OS2 硫化氧銻晶體Sb2OS2 crystals
TlInS2 硫化銦晶體TlInS2 crystals
TlGaS2 硫化鎵晶體TlGaS2 crystals
GeS 硫化鍺晶體(Germanium Sulphide)
p-type WS2 crystals P型二硫化鎢晶體p-type WS2 crystals
GaS 硫化鎵晶體(Gallium Sulfide)
HfS2 二硫化鉿晶體(Hafnium Disulfide)
WS2 二硫化鎢晶體(Tungsten Disulfide)
ReS2 二硫化錸晶體(Rhenium Disulfide)

 

 
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yyp2021.6.23

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