二氧化硅納米粒子（200nm）(25mg/ml)
中空nano-silicon dioxide(200nm)
介孔nano-silicon dioxide 200nm
二氧化硅納米粒子
物理性質：
納米二氧化硅外觀為為無定形白色粉末，粒子尺寸范圍在1~100納米，微結構為球形，呈絮狀和網狀的準顆粒結構。
溶解性能：不能溶于水和酸（氫氟酸除外）及有機溶劑，能溶于堿及氫氟酸。
穩定性：穩定
制造方法
納米SiO2的制備方法分為物理法和化學法兩種。
（1）物理法
物理法一般指機械粉碎法。利用超級氣流粉碎機或高能球磨機將SiO2的聚集體粉碎可獲得粒徑1～5微米的超細產品。該法工藝簡單但易帶入雜質.粉料特性難以控制，制備效率低且粒徑分布較寬。
（2）化學法
化學法可制得純凈且粒徑分布均勻的超細SiO2顆粒。化學法包括化學氣相沉積(CVD)法、液相法、離子交換法、沉淀法和溶膠凝膠(Sol-Gel)法等，主要的生產方法還是以四氯化硅為原料的氣相法，以硅酸鈉和無機酸為原料的沉淀法和以硅酸醋等為原料的溶膠凝膠法。
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