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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
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半導體工業超純水特點簡介：
超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。
產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。
半導體工業超純水
超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。
半導體工業超純水特點
超純水傳統的制備工藝通常是采用離子交換樹脂進行制取，但采用離子交換樹脂通常需要經常性的進行樹脂再生，即耗費物力又浪費人工，我們公司經過多年實踐，同時結合新的膜分離技術，采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合研發的各行業用超純水設備，運行可靠。與新工藝相比具有造價低，系統穩定等優點。
半導體工業超純水應用范圍
1、化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程
2、超純材料和超純化學試劑
3、實驗室和中試車間
4、電子半導體、集成電路板上用到的化工材料
5、石英、硅材料生產、加工、提純
6、高純墨水、打印機中的噴墨、納米墨水
半導體工業是超純水應用的主要產業之一。在半導體加工過程中，需要用水進行處理。水質要求較高，不含任何離子雜質。半導體超純水設備可以有效去除水中雜質，保證設備出水水質。萊特萊德采用雙反+EDI+Huncotte系統組合工藝，出水可達18.2mΩ·cm。
反滲透系統采用反滲透原理，主要去除溶解鹽、有機物、膠體、高分子等，降低水質離子含量。EDI是結合離子交換膜技術和離子電遷移技術的純水制造技術。它不需要酸堿再生。這是一種新的脫鹽方法。EDI無需回收化學品，運行成本低，EDI超純水系統自動化程度高，可實現連續運行，出水水質良好穩定，出水電阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系統用于高純水處理系統的末端凈化器。可將水中離子含量降至ppb級，出水電阻率可達18.2mΩ·cm。為半導體帶來更好的性能優勢。
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