產品信息和價格僅供參考,詳細可留言咨詢。
芯片生產過程中幾乎每道工序都需要超純水清洗,工件與水直接接觸。一旦水質不合格或水中有雜質,就會降低裝置的性能,降低產量。超純水是為了研制超純材料應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水,其電阻率大于18 MΩ*cm,或接近18.2 MΩ*cm(25℃),可以說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。傳統的超純水制取方法主要有蒸餾法和離子交換法等,其中,蒸餾法要求設備嚴密、產量低、能耗高;離子交換法再生失效的離子交換樹脂需要大量酸堿溶液和大量的清洗水,勞動強度大。隨著電子行業的不斷發展,對水質的要求也越來越高,傳統方法顯然不適用于芯片生產制備超純水。
萊特萊德EDI超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的出水電阻率達到18 MΩ.CM以上,設備不會因為樹脂再生而停止運行、結構緊湊、占地面積小,可以為企業節省更多空間。EDI超純水設備內部設有反滲透預脫鹽系統,保障設備的出水水質符合芯片生產用水需求,與此同時,EDI超純水設備廢水產出量少,不會對環境造成污染,具有很高的環境效益、經濟效益,發展前景廣闊。