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純水是半導體生產離不開的必要元素。傳統純水制備方法主要有蒸餾法和離子交換法。蒸餾設備要求嚴格,產量低,能耗高。離子交換法再生失效的離子交換樹脂需要大量的酸堿溶液和大量的清洗水,勞動強度高。早期用于醫藥、化工、發電等行業的純水水質要求不是很高,但隨著半導體行業的快速發展,對純水的水質要求越來越高。
傳統方法不適合單獨用于生產高純度超純水。20世紀60年代以來,隨著膜技術的發展,出現了微濾、超濾、反滲透和電滲析等新的水處理技術。目前,RO+混床系統已經取代了傳統的離子交換系統,但反滲透對原水中溶解氣體和一些弱電解質等雜質的去除效果較差,混床再生會消耗酸堿溶液,產生一定量的廢水。EDI工藝可連續再生無酸堿溶液的離子交換樹脂,減少環境污染。設備結構簡單,操作方便,高效節能,勞動強度低,出水純度高。因此,EDI超純水設備越來越受到人們的重視。