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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
芯片超純水設備簡介：
超純水主要應用于溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等場合，對于水質要求相對嚴格，我們公司可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透，EDI等超純水生產工藝的不同組合，生產出既經濟實用，又能滿足客戶要求的超純水設備。
產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。
超純水幾乎成為了芯片生產企業的“標配"。超純水是為了研制超純材料(半導體原始材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當超臨界精細技術生產出來的水，水體電阻率大于18 MΩ*cm或接近18.3 MΩ*cm(25℃)。簡單地說，就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。
萊特萊德超純水設備采用反滲透水處理設備、電去離子(EDI)設備及拋光混床相結合的方式來生產超純水，與傳統的制取工藝相比更環保，更經濟。超純水生產過程中，無需酸堿再生、有效去除有害物質、減少了繁瑣的工藝程序，能夠穩定且連續地產出18.2MΩ·CM的超純水，滿足芯片生產用水的需求。
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