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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
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半導體行業用超純水工藝簡介：
超純水主要應用于溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等場合，對于水質要求相對嚴格，我們公司可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透，EDI等超純水生產工藝的不同組合，生產出既經濟實用，又能滿足客戶要求的超純水設備。
產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。
半導體行業用超純水的工藝
超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。
半導體行業用超純水的工藝優勢：
1、設備運行安全、穩定、可靠，并實現系統設備的遠程監控。
2、設備配有聲光報警，設備運行出現任何異常時，系統可進行聯鎖保護。
3、控制系統采用集中監控方式，能與工藝系統網絡通訊，實現工藝系統全自動運行。
4、終端供水泵能夠實現不降壓設備切換。
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