半導體行業超純水特點介紹

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產品型號LTLD

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更新時間：2022-02-22 09:26:03瀏覽次數：407次

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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司

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產品簡介

半導體行業超純水特點介紹：
　　超純水主要應用于溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純等場合，對于水質要求相對嚴格，我們公司可根據客戶對水質的具體要求，采用反滲透，EDI等超純水生產工藝的不同組合，生產出既經濟實用，又能滿足客戶要求的超純水設備。

詳細介紹

產品信息和價格僅供參考，詳細可留言咨詢。

　　伴隨著半導體工業生產的飛速發展，對清理純水電導率、離子含量、TOC、DO和顆粒的需求更加嚴苛。因為超純水在很多指標值上對半導體的標準很高，因而半導體領域的超純水與別的行業的自來水規定不一樣。半導體領域對超純水有極為嚴謹的水體規定。現階段，中國常見的超純水規范有國家行業標準《電子級水》(GB/T11446.1-2013)和美國規范《電子和半導體行業用超純水指南》(ASTM-D5127-13)。美國標準對指標值規定更嚴苛。

　　在半導體生產過程中，硼是一種P型殘渣。過多會使N型硅翻轉，進而危害電子器件和空穴的濃度值。因而，在超純水工業生產中應考慮到硼的除去。電子器件和半導體工業級超純水規范指引(ASTM-D5127-13)規定硼離子≤0.05ine1.3μg/L。假如硼離子含量可以做到較低的指標值，則必定會改進半導體的性能。

　　半導體超純水加工工藝中Huncotte系統軟件采用核級環氧樹脂，可根據*的靶向治療離子互換環氧樹脂合理自動控制系統出水量的硼離子含量。選用IPC-MS檢驗硼離子含量，并對硼離子流出物開展剖析≤0.005μG/L遠小于硼離子的規定≤ASTM-D5127-13規范中E1.3中的0.05μg/L。大家堅信更優質的超純水可以給半導體產生更佳的性能，給半導體公司產生更強的優點。