真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L
名稱（Name）
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
層數（Electrode of plies）
6（Option）
有效處理面積（Area）
500（L）*500（W）（Option）
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2
產品特點：處理空間大，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，有效控制設備運行。
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求。
保養維修成本低，便于客戶成本控制。
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
應用范圍：主要適用于生物醫療行業，印制線路板行業，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。
真空等離子清洗機擁有諸多優勢廣泛應用于表面去污及等離子刻蝕
真空等離子清洗機由真空發生系統、電氣控制系統、等離子發生器、真空腔體及相關機械等幾個部分構成。應用時可以根據客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機。
真空等離子清洗機有著眾多優點：
1、選用數控加工技術智能化程度高；
2、具備高精密的操縱設備，時間控制精度高；
3、合理的等離子體清理不容易在表層產生損害層，工藝性能得到保證；
4、清理工作中在真空中進行，清理流程環保安(全)，不容易造成環境污染，且合理保證清理表層不容易被二次污染。
真空等離子清洗機利用兩個電極形成電磁場，用真空泵實現有效的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的間距及分子或離子的自由運動的距離也越來越長，受磁場作用發生碰撞而形成等離子體并產生輝光。等離子體在電磁場內的空間運動，并不斷轟擊被處理物體表面，去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有(機)物以及其它化學物質，以此達到表面處理清洗和刻蝕的效(果)。
真空離子清洗機廣泛應用于表面去污及等離子刻蝕，聚四氟（PTFE）及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面(活)化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序，因此廣泛應用于汽車領域、電子領域、電子領域、PCB制成行業等高精密度領域。
真空等離子清洗機整個清洗過程大致如下：
1、首先將被清洗的工件送入真空機并加以固定，啟動運行裝置開始排氣，讓真空腔內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。
2、然后向真空室內引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內壓強穩定。根據清洗材料的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。
3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿并通過輝光放電而發生等離子化和產生等離子體，讓在真空腔內產生的等離子體籠罩住被處理的工件并開始清洗作業，一般清洗處理持續幾十秒到幾十(分)鐘不等，根據處理材質的不同而定。
4、清洗完畢后切斷電源，并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出，清洗結束。
真空等離子清洗機擁有諸多優勢：如采用數控技術自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時間控制精度高；正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層，表面質量得以保證；清洗工作在真空環境中進行，清洗過程環保(安)全，不會污染環境，且有效保證清洗表面不會被二次污染。
