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行業(yè)產(chǎn)品

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蘇州星源潔凈環(huán)境科技有限公司


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無(wú)掩膜光刻機(jī) 激光直寫系統(tǒng)

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參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式:高新查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2022-05-11 12:41:45瀏覽次數(shù):305次

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經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:1748條

所在地區(qū):江蘇蘇州市

聯(lián)系人:高新 (總經(jīng)理)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

詳細(xì)介紹無(wú)掩膜光刻機(jī)激光直寫系統(tǒng)紫外激光直寫設(shè)備/無(wú)掩膜光刻機(jī),uLaser型是一個(gè)高價(jià)值的直寫激光光刻機(jī)系統(tǒng),面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力

詳細(xì)介紹

詳細(xì)介紹

無(wú)掩膜光刻機(jī) 激光直寫系統(tǒng)







紫外激光直寫設(shè)備/無(wú)掩膜光刻機(jī),uLaser型

 

是一個(gè)高價(jià)值的直寫激光光刻機(jī)系統(tǒng),面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。
它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西,從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型,集成相機(jī)可以用來(lái)調(diào)整現(xiàn)有的功能寫。
我們對(duì)其進(jìn)行了優(yōu)化,以便于使用和簡(jiǎn)單維護(hù),限度地利用現(xiàn)成的部件,而不犧牲書寫質(zhì)量或功能。
直接激光書寫光刻
直接激光光刻技術(shù)通過(guò)消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。

High resolution lithography

sub-micron resolution and produce 10um features.
Big writing area

make full size photomasks for production or in-house usage.

Change spot sizes easily

The last lens is an industry standard microscope objective. Replace it to change the spot size!  We include three microscope objectives.
Use the optics for inspection

Using the confocal yellow illumination and camera you can use the µLaser as a microscope


375nm Laser

Rotary stage for alignment

 

μLaser隨其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫入的設(shè)計(jì)。
一切都是通過(guò)一個(gè)用戶友好的圖形界面來(lái)完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫的設(shè)計(jì)。
除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,還可以在單個(gè)過(guò)程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。
在確定了設(shè)計(jì)方案后,采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。
使用它們,您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。
接下來(lái)執(zhí)行該過(guò)程并將設(shè)計(jì)寫在表面上。


技術(shù)指標(biāo):
XY工作臺(tái)
典型寫入速度:100-120 mm/s
面積:100x92 mm^2
最小面積:沒(méi)有最小面積
單向定位臺(tái)階:X=0.16µm,Y=1.00µm
慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm
快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm
多層對(duì)準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺(tái),便于對(duì)準(zhǔn))
實(shí)際最小特征尺寸:6-15µm,取決于特征(示例見(jiàn)下圖)

軟件
支持的格式:PNG、GDSII
在軟件轉(zhuǎn)換:,旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框
-可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫來(lái)自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)
-通過(guò)3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償
-全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定

光學(xué)
-激光波長(zhǎng):405nm(可選375nm)
-激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡
-二次獨(dú)立黃色照明
-激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變

精度:
-精細(xì):0.8µm
-介質(zhì):2µm
-粗粒:5µm

大面積包含目標(biāo)的有效書寫速度(單向書寫):
-精細(xì):1.7 mm^2/min
-中等:4.25 mm^2/min
-粗糙度:10.6 mm^2/min
在雙向?qū)懭肽J较滤俣燃颖丁?/p>


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