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光氧催化廢氣處理設備

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產品簡介

光氧催化廢氣處理設備自從日本學者Fujishima和Honda于1972年在半導體TiO2電上發現了水的光催化分解作用,開辟了半導體光催化這一新領域。

詳細介紹

光氧催化廢氣處理設備介紹:

光催化是指在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射,受激產生分子激發態,繼而發生化學反應生成新的物質或變成引發熱反應的中間化學產物。光催化劑是指在光的照射下,自身不起變化,卻可以   化學反應的物質。它利用光能轉化成化學反應所需的能量,產生催化作用,使周圍的氧氣及水分子激發成   氧化力的自由基或負離子。

光催化氧化分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化。均相光催化氧化主要為UV/Fenton試劑法。Fenton試劑為Fe2+和H2O2的組合,其氧化機理為Fe2++H2O2→˙OH+OH-+Fe3+Fe3++H2O2→Fe2++˙HO2+H+,因此Fenton試劑在水處理中具有氧化和混凝兩種作用,在黑暗中就能降解有機物,節省了設備投資,然而H2O2利用率不高,不能充分礦化有機物。當有光輻射(如紫外光)時,Fenton試劑氧化性顯著提高。UV/Fenton法也叫光助Fenton法,是普通Fenton法與UV/H2O2兩種系統的復合產物,降低Fe2+用量的同時保持H2O2較高的利用率,而UV和Fe2+對H2O2的催化分解存在協同效應,˙OH的生成速率遠大于傳統Fenton法和紫外催化分解H2O2速率的簡單加和。因此UV/Fenton試劑法在處理難降解有機污染物時具有   的優勢,很有應用前景。

非均相光催化氧化技術主要為TiO2光催化氧化技術。自從日本學者Fujishima和Honda于1972年在半導體TiO2電上發現了水的光催化分解作用,開辟了半導體光催化這一新領域。1977年,Yokota等發現TiO2在光照條件下對丙烯環氧化具有光催化活性,從而拓寬了光催化的應用范圍,為有機物氧化反應提供了一條新的思路。此后世界范圍內便開始了光催化氧化技術在污水處理、空氣凈化、抗菌殺毒、有機合成等方面的應用,半導體光催化技術受到的廣泛關注,并了快速發展,成為   上做活躍的領域之一。

不同類型有機物的光催化降解

半導體光催化劑大多是n型半導體材料(當前以TiO2使用   廣泛),具有區別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在價帶和導帶之間存在一個禁帶。由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有公式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。在光照下,如果光子的能量大于半導體禁帶寬度,其價帶上的電子(e-)就會被激發到導帶上,同時在價帶上產生空穴(h+)。當存在合適的俘獲劑、表面缺陷或者其他因素時,電子和空穴的復合抑制,就會在催化劑表面發生氧化—還原反應。價帶空穴是良好的氧化劑,導帶電子是良好的還原劑,在半導體光催化反應中,一般與表面吸附的H2O、O2反應生成˙OH和超氧離子O2-,能夠把各種有機物直接氧化成CO2、H2O等無機小分子,電子也具有強還原性,可以還原吸附在其表面的物質。激發態的導帶電子和價帶空穴能重新合并,并產生熱能或其他形式散發掉。


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