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太倉希德機械科技有限公司
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碳混懸液納米膠體磨在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。
碳混懸液納米膠體磨
納米碳混懸注射液高剪切膠體磨，納米碳混懸注射液超高速均質機，納米碳注射液均質機，醫藥超高速均質機，納米碳混懸液均質機
二、納米碳混懸注射液的簡介
納米碳為納米級碳顆粒制成的混懸液，顆粒直徑為150nm，具有高度的淋巴系統趨向性，是一種有效的淋巴結示蹤劑。由于毛細血管內皮細胞間隙約為20-50nm，毛細淋巴管內皮細胞間隙約為120-500nm，故當納米碳注射劑到組織內，可迅速進入入淋巴管或被巨噬細胞吞噬后進入毛細淋巴管聚集于淋巴管和淋巴結組織，使淋巴組織得到修繕。
三、納米碳混懸注射液的制備
納米碳混懸注射液，是將納米碳分散到液體介質中，加入輔料聚維酮K30制得的。納米碳為納米粉體，分散到液體介質中，會出現團聚現象，難以分散。結合多家客戶案例推薦XMD2000系列超高速均質機進行納米碳混懸注射液的均質分散處理。XMD2000系列超高速均質機，轉速可達18000rpm，可以將納米碳充分分散均質，解決團聚問題，還原原始納米粒徑。另外XMD2000系列高剪切均質機，與物料接觸部分都帶有夾套可通過介質對物料溫度進行嚴格控制。
四、高剪切力對注射液的作用
高剪切條件下的外用液體制劑，高速通過工作腔定轉子間隙，由于轉子高速轉動，物料在定轉子間隙內，高速撞擊、剪切等綜合效應，將較大的顆粒粉碎成很小的微粒，它們的直徑在0.01-2μm范圍內，效果好的可達納米級。這個純粹的物理過程保持產品原有的活性，與此同時，細化了顆粒，獲得相對穩定的注射液。
五、高剪切納米均質機用于制藥行業的優勢
1、污染是制藥過程很大的風險因素，對于設備良好的清潔可以有效的防止污染的發生。XMD2000從設計上注重衛生要求，采用設計，便于清洗，對表面進行高質量處理，防止其對制藥產生不利影響，該設備還符合CIP和SIP的清潔標準，能更好的實現在線清洗，提高工作效率，確保產品安全。
2、設備更便于生產員工進行操作，物料投入投料口后自動從出料口排出，如果存在穩定的工藝路線，可以直接通過管線與上一工序相連接，則該設備可以實現無人操作，在生產過程中適用性。
3、設計符合制藥工業要求，同時滿足不同產品對于粒徑的要求，在制藥的分散混合工藝中應用前景很大。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
碳混懸液納米膠體磨
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