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深圳市東信高科自動化設備有限公司
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產品介紹型號小型等離子清洗機TS-PL05腔體材質316不銹鋼容量5L功率500W電源頻率40KHz/13
| 型號 | 小型等離子清洗機TS-PL05 |
| 腔體材質 | 316不銹鋼 |
| 容量 | 5L |
| 功率 | 500W |
| 電源頻率 | 40KHz/13.56MHz可選 |
| 腔體尺寸 | 直徑150*280 |
| 外形尺寸（L*W*H） | 660*700*600 |
| 真空度 | 30pa-100pa |
| 氣體通道 | 兩路工作氣體O2、Ar等 |
| 控制方式 | 人機界面 |
等離子清洗技術是一種高精密清洗技術，其清洗原理是先產生真空，在真空狀態下，由于壓力的減小，增加了分子間間距，使得分子間力逐漸變小， 再利用射頻源產生的高壓交變電場將工藝氣體震蕩，使其成為具有一定反應活性或高能量的離子， 通過這些離子與工件表面的有機污染物或微顆粒 污染物反應或碰撞形成了揮發性物質，然后由工作氣體及真空泵將這些揮發性物質清除出去，從而達到表面清潔活化的目的。與溶劑清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態"的物質的“活 化作用"達到去除物體表面污漬的目的。從清洗效果來說，等離子體清洗是所有清洗工藝中的剝離式的清洗
1)氬氣:物理轟擊是氬氣清洗的機理。氬氣是 的物理等離子體清洗氣體,原因在于它原子的尺寸大。可以用很大的力量轟擊樣品表面。正的氬離子將被吸引到負向電極板。撞擊力足以去除表面上的任何污垢。然后這些氣態污物通過真空泵排出。
2)氧氣:化學工藝中等離子體與樣品表面上的化合物反應。例如,有機污染物可以有效地用氧氣等離子去掉,這里氧氣等離子與污染物反應,產生二氧化碳、一氧化碳和水。一般地說,化學反應清除有機污染物效果更好。
3)氫氣:氫氣可供去除金屬表面氧化物使用。 它經常與氬氣混合使用,以提高去除速度。一般人們擔心氫氣的易燃性,氫氣的使用量非常少。人們更大的擔心是氫氣的存儲。我們可以采用氫氣發生器從水中產生氫氣。從而去掉了潛在的危害性。
4)CF4/SF6:氟化的氣體在半導體工業以及PWB (印制線路板)工業中應用非常廣泛。在IC封裝中的應用只有一種。這些氣體用在PADS工藝中,通過這種處理,氧化物轉化成氟氧化物,允許無流動焊接。
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