德國BUSCH廢氣處理系統
普旭真空為半導體、LCD及相關行業提供了應用廣泛的新一代廢氣處理系統。高效的廢氣處理技術提供凈化到閾限值以下的氣體，同時滿足現有的和發展中的要求。
產品型號
| Technology | Model | Capacity（SLM） | Applications | Gas |
| Flameless Catalytic （AFC） | AFC 0500A | 500 | PE-CVD, HDP-CVD, ALD(NF3), AMOLED 6G CVD | Flammable gases，water-soluble gases |
| AFC 2000A | 2000 | AMOLED 6G CVD |
| Wet-Plasma-Wet（APW） | APW 0500A | 500 | etch for PFCs |
| Burn-Wet （ABW) | ABW 0500A | 500 | CVD,etch for PFCs |
| Thermal-Wet （ATW) | ATW 0500A | 500 | ALD,CVD,DIEF |
| ATW 1000A | 1000 | ALD,CVD,DIFF,LCD |
| ATW 3500A | 3500 | MO-CVD,EPI, LCD(7G) |
| ATW 4000A | 4000 | MO-CVD,EPI, LCD(>8G) |
| Wet(AWE) | AWE 0500A | 500 | metal etch | water-soluble gases |
| AWE 0500AE | 500 | EPI(DCS,TCS) |
| Semi-Dry (ASD) | ASD 0800A | 800 | etch for cost-saving |
無焰催化處理技術（AFC）
AFC是結合了無焰催化熱氧化和濕法處理技術的高溫催化劑系統。用于 集成到高效單一系統中，旨在減少易燃，水溶性氣體并使NF3可容納高達3000SLM的高氣流。
技術特點：
??在半導體應用和AMOLED流程中（使用大量生成氣體和NF3的粉末）非常適合CVD工藝（使用NF3作為吹掃氣體）。
??金屬蝕刻應用的上佳解決方案。
??由于電加熱器和廢氣反應熱，催化劑區域始終保持高溫，而沒有燃燒額外的燃料（LNG）。
??減少NOx生成
??粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區中
??降低了運行成本
??易于維護和濾芯更換
??觸摸屏顯示
濕法-等離子-濕法處理技術（APW）
APW是一個集成于單一系統的濕法-等離子-濕法處理技術的組合，是氧化物和多晶硅蝕刻工藝應用的理想選擇。
技術特點：
??新濕法等離子分離設計
??耐用的反應堆等離子炬和電源設計
??具有高氣體DRE（％）的穩定性能
??在廢氣進入等離子反應器之前，先將副產物和水溶性氣體進行預濕區去除
??有效減少CF4，C2F6，SF6等PFCs
??核心零件的使用壽命長和維護周期
??易于清潔和預防性維護
??觸摸屏顯示
燃燒-濕法處理（ABW）
ABW是集成于單一系統中燃燒和濕法處理技術的組合，旨在有效減少PFCs，是CVD和蝕刻工藝應用的理想選擇。
技術特點：
??新快速燃燒濕室分離設計
??多個安全聯鎖
??燃燒室帶有水冷壁機制的湍流火焰
??燃燒過程中可能產生的粉末和水溶性氣體被捕獲在多級潤濕區
??有效減少CF4，C2F6，SF6等PFCs
??性能穩定
??運行成本低
??易于清潔和預防性維護
??觸摸屏顯示
熱式-濕法處理技術（ATW）
技術特點：
ATW將電熱和濕法處理技術結合在一個系統中，該系統旨在容納高達4000 SLM的總氣流，是重粉生成和腐蝕性應用的理想選擇。
??新快速熱濕室分離設計
??多個安全聯鎖
??兩種減排方法的組合，即熱濕法（通過易燃和發火性氣體的無焰熱氧化改變工藝氣體的化學性質）和水溶解（對于水溶性氣體）
??易于清潔和預防性維護
??觸摸屏顯示
濕法處理技術（AWE）
技術特點：
AWE濕式洗滌器是適應高H2和金屬粉末生成應用的理想選擇。
??金屬蝕刻應用的上佳解決方案
??極高的安全性和正常運行時間
??四個獨立的反應室，配備智能入口防止堵塞功能和強大的文丘里管裝置
??內置水循環系統
??降低了運營成本
??觸摸屏顯示
