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QCC維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x

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產(chǎn)品型號(hào)MicroLine-300

品       牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地秦皇島市

聯(lián)系方式：劉利查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-12-29 19:50:56瀏覽次數(shù)：271次

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經(jīng)營(yíng)模式：經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品：53條

所在地區(qū)：河北秦皇島市

聯(lián)系人：劉利 （銷售客服）

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x
MicroLine 系列 主要用于測(cè)量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物（多層套刻、圓、對(duì)接誤差等）量測(cè)。
MicroLine 臨界尺寸測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)應(yīng)用于半導(dǎo)體和MEMS晶圓以及光掩模CD量測(cè)。Microline 系列可自動(dòng)測(cè)量線寬，迭置重合，和其他關(guān)鍵尺寸。

MicroLine 裝備有高性能光學(xué)顯微鏡，高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，可測(cè)量0.5

詳細(xì)介紹

維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x

MicroLine-300是一款桌上型半自動(dòng)CD測(cè)量系統(tǒng)。

主要技術(shù)參數(shù)：

◆    測(cè)量范圍(XYZ)：標(biāo)準(zhǔn)：200×200×25mm；可選：300x300x25
◆    視場(chǎng)內(nèi)測(cè)量精度：10nm(100X 鏡頭)；Z軸聚焦范圍：25 mm
◆    視場(chǎng)內(nèi)測(cè)量范圍：0.5um~400um；
◆    視場(chǎng)內(nèi)測(cè)量重復(fù)性(100x 物鏡)：  晶圓上<0.010um(1δ)；
                                                    掩模板上0.005um(1δ)；   

◆    承重：2kg

◆    標(biāo)配鏡頭10x，可選鏡頭：5X, 20X, 50X, 100X 

維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x

MicroLine 300 is a table type semi-automatic CD measurement system .

The main technical parameters :

◆ X,Y,Z Measuring Range (mm):   standard :200x200x25                      optional :  300X300x25 

◆ The field measurement accuracy ：10nm （100X lens ）          Z Foucsing Range (mm)     :   25

◆ The field measurement range ：0.5um~400um；

◆ The field measurement repeatability （100X lens）：on wafer < 0 0.010m(1δ)；

                                                                             on mask plate 0.005um(1δ)；   

◆  Max Recommanded Load      :   2kg

◆  Lens ： standard ：10X

                 optional ：5X，20X，50X，100X。 

 

維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x

MicroLine 系列 主要用于測(cè)量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對(duì)接誤差等)量測(cè)。
MicroLine 臨界尺寸測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)應(yīng)用于半導(dǎo)體和MEMS晶圓以及光掩模CD量測(cè)。Microline 系列可自動(dòng)測(cè)量線寬，迭置重合，和其他關(guān)鍵尺寸。

MicroLine 裝備有高性能光學(xué)顯微鏡，高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，可測(cè)量0.5 微米到400 微米大小的產(chǎn)品，測(cè)量精度和重復(fù)性在10nm （1  σ ，100倍物鏡）。

維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x

MicroLine 系列 主要用于測(cè)量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對(duì)接誤差等)量測(cè)。
MicroLine 臨界尺寸測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)應(yīng)用于半導(dǎo)體和MEMS晶圓以及光掩模CD量測(cè)。Microline 系列可自動(dòng)測(cè)量線寬，迭置重合，和其他關(guān)鍵尺寸。

MicroLine 裝備有高性能光學(xué)顯微鏡，高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，可測(cè)量0.5 微米到400 微米大小的產(chǎn)品，測(cè)量精度和重復(fù)性在10nm （1  σ ，100倍物鏡）。

 


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