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伯東企業(yè)(上海)有限公司


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上海伯東代理美國(guó)KRI 射頻離子源 RFICP 100

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參   考   價(jià): 1140000

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

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更新時(shí)間:2024-05-01 17:08:49瀏覽次數(shù):154次

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經(jīng)營(yíng)模式:代理商

商鋪產(chǎn)品:76條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:鄧 (銷售助理)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.
KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量(Typical flow):5-30 sccm
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).

詳細(xì)介紹

上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可聚焦, 平行, 散射.

KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >350 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量(Typical flow):5-30 sccm

采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).

離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

適用于離子濺鍍和離子蝕刻, 實(shí)現(xiàn)薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學(xué)配合, 蝕刻更均勻.


伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 100 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

RFICP 100

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>350 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

10 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

23.5 cm

直徑

19.1 cm

中和器

LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量


伯東KRI 考夫曼離子源 RFICP 100 應(yīng)用領(lǐng)域:

1. 預(yù)清洗

2. 表面改性

3. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD,

4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

6. 離子蝕刻 IBE


若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論,   請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生  



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