上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston, 通過使用分子傳感技術, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣在線監控, 診斷, 為半導體過程控制提供解決方案, 提高半導體制造工藝的產量, 吞吐量和效率, 在現有生產工藝工具上加裝 Aston, 可在短時間內實現晶圓更高產量!

詳細介紹

Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 技術規格：

實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數據
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具集成
Aston™ 過程質譜分析儀作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統工具, 提供的控制水平, 包括光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.

Aston™ 過程質譜分析儀技術參數

類型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型號	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
質量分離	四級桿
真空系統	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵
檢測器	FC /SEM
質量范圍	2-285		2-220		2-285
分辨率	0.8±0.2
檢測限	0.1 PPM
工作溫度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)		400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Atonarp  Aston™ 應用: 半導體工藝過程控制和優化的重大發展, 提高半導體制造工藝的產量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新設計堅固耐用的緊湊型在線質譜儀, 適用于半導體制造和工業過程控制應用中氣體監測和控制, 高定量精度和實時性與生產穩健性和可靠性相結合, 例如半導體 dry pump 尾氣偵測分析, 實現在線監控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識別跟蹤分子
Aston™ 半導體在線質譜儀應用

若您需要進一步的了解 Atonarp Aston™ 在線質譜儀詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐                                   中國臺灣伯東: 王小姐
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