EDI概述： EDI超純水設備,超純水設備,電鍍超純水設備
EDI超純水設備連續電除鹽（EDI，Electro-deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。屬高科技綠色環保技術。這一新技術可以代替傳統的離子交換，生產出電阻率高達18 MΩ·cm的超純水 。EDI超純水設備具有連續出水、無需酸堿再生、出水水質穩定，模塊能耗少，節約運行費用，容易實現在整體式的模塊排列，重量輕，結構緊湊，和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多地在各大行業中得到推廣。
水質：電阻率>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件產品、單晶硅、多晶硅清洗需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。
根據行業的不同要求，制取純水、超純水工藝大致分為以下四種：
1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾→陰樹脂過濾→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調節→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
4、原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
超純水處理系統、超純水處理設備的工藝特點： EDI超純水設備,超純水設備,電鍍超純水設備
在設備設計上，采用成熟、可靠、*、自動化程度高的兩級反滲透＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質符合要求，水利用率高，運行可靠，經濟合理。關鍵設備及材料均采用國際主流*可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
超純水處理系統、超純水處理設備的特點：
超純水處理系統、超純水處理設備應用在反滲透系統之后，取代傳統的混床離子交換技術生產穩定的超純水。EDI技術與混合離子交換技術相比有如下優點：
1、無需酸堿再生, 不會因再生而停機， 水質穩定，無污水排放： 在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生， 且需要安全儲存酸堿的車間， 再生時有大量有害廢水和廢棄物需處理，增加了環保和安全方面的工作困難。 而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環境。
2、運行費用低， 連續、簡單的操作， 容易實現全自動控制：在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的，產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。
3、廠房面積小，降低了安裝的要求：EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。模塊化的設計，使EDI在生產工作時能方便維護。
EDI超純水處理設備系統原理： EDI超純水設備,超純水設備,電鍍超純水設備
EDI超純水處理設備設備系統是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板多組交替排列，構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化，提純，濃縮或精制的目的。這一過程離子交換樹脂是電連續再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。這一新技術可以替代傳統的離子交換裝置，生產出高達18M-CM的超純水 。
超純水設備應用領域： ??
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；??
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水； ??
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；??
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液； ??
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；??
集成電路生產中高純水清洗硅片； ?
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水； ??
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
高品質顯像管、螢光粉生產；???
汽車、家電表面拋光處理。
