產(chǎn)品型號(hào):380 N3000
產(chǎn)品名稱(chēng):Nicomp 380 N3000 納米激光粒度儀
產(chǎn)品標(biāo)簽:粒度儀，激光粒度儀，納米粒度儀，粒徑分析儀，平均粒徑分布
1.【USP729】檢測(cè)項(xiàng)目I推薦;
2.符合中國(guó)藥典2010版;
3.的Nicomp多峰算法;
4.的自動(dòng)稀釋模塊;
5.精確度高;
6.特為多組分不均勻體系設(shè)計(jì);
7.模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級(jí);
8.可配搭多種功率光源和檢測(cè)器
產(chǎn)品介紹：
專(zhuān)為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案
NICOMP呈現(xiàn)的不僅僅是傳統(tǒng)的高斯正態(tài)分布，還有更多。。。。。。
NICOMP 380N3000納米粒徑分析儀
Nicomp 380 N3000 納米粒徑分析儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒的粒度分布，主要用于檢測(cè)納米級(jí)別的膠體體系，其粒徑檢測(cè)范圍 0.3 nm- 10μm。Nicomp 380系列儀器復(fù)合采用了 Gaussian 單峰算法和的 Nicomp 多峰算法，對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有優(yōu)勢(shì)，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類(lèi)產(chǎn)品的。
基線(xiàn)調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所的兩個(gè)主要特點(diǎn)，通過(guò)多年在不同領(lǐng)域的實(shí)踐證明，Nicomp380系列儀器可以有效區(qū)分開(kāi)相鄰峰，也可以識(shí)別并剔除少數(shù)較大粒子造成的雜峰。如下圖所示：
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以有效區(qū)分開(kāi)相鄰峰
| | 動(dòng)態(tài)光散射&模塊化設(shè)計(jì) 標(biāo)準(zhǔn)配置的Nicomp 380 納米粒徑分析儀裝載了 15 mW的半導(dǎo)體激光光源，PMT探測(cè)器，以及固定90度檢測(cè)角。進(jìn)樣方式為嵌入式樣品池。 Nicomp 380納米粒徑分析儀是在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的*粒度儀。隨著模塊的升級(jí)和增加，Nicomp 380的功能體系越來(lái)越強(qiáng)大，可以用于各種復(fù)雜體系的檢測(cè)分析。 |
| | 自動(dòng)稀釋模塊 帶有的自動(dòng)稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來(lái)的誤差，且不需要人工不斷試錯(cuò)來(lái)獲得合適的測(cè)試濃度，這大大縮短了測(cè)試者寶貴時(shí)間，且無(wú)需培訓(xùn)，測(cè)試結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差率＜1%。 |
| | 380/HPLD大功率激光器 美國(guó)PSS粒度儀公司在開(kāi)發(fā)儀器的過(guò)程中，考慮到在各種實(shí)驗(yàn)測(cè)試條件中不同的需求，對(duì)不用使用條件和環(huán)境配置了不同功率的激光發(fā)生器。大功率的激光器可以對(duì)極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號(hào)，使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣，大功率激光器在測(cè)試大粒子的時(shí)候同樣也很有幫助，比如在檢測(cè)右旋糖酐大分子時(shí)，折射率的特性會(huì)引起光散射強(qiáng)度不足。 因?yàn)榇蠊β始す馄鞯奶匦裕瑫?huì)彌補(bǔ)散射光強(qiáng)的不足和衰減，測(cè)試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質(zhì)以及其他大分子不再是一個(gè)苛刻的難題。即使沒(méi)有色譜分離，Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。 |
| | 雪崩二極管 (APD) 探測(cè)器
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以裝配各種大功率的激光發(fā)生器和級(jí)別的雪崩二極管檢測(cè)器（相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有7倍放大增益效果）。 APD通常被用于散射發(fā)生不明顯的體系里來(lái)增加信噪比和敏感度，如蛋白質(zhì)、不溶性膠束、濃度極低的體系以及大分子基團(tuán)，他們的顆粒的一般濃度為1mg/mL甚至更低，這些顆粒是由對(duì)光的散射不敏感的原子組成。APD外置了一個(gè)大功率激光發(fā)生器模塊，在非常短的時(shí)間內(nèi)就能檢測(cè)分析納米級(jí)顆粒的分布情況。
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| | 380/MA多角度檢測(cè)器
粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會(huì)朝著各個(gè)方向散射。多角度檢測(cè)角器通過(guò)調(diào)節(jié)檢測(cè)角度來(lái)增加粒子對(duì)光的敏感性來(lái)測(cè)試某些特殊級(jí)別粒子。Nicomp 380可以配備范圍在10°-175°，步長(zhǎng)0.9°的多角度測(cè)角器，從而使得單一90°檢測(cè)角測(cè)試不了的樣品，通過(guò)調(diào)節(jié)角度進(jìn)行檢測(cè)，改善對(duì)大粒子多分散系粒徑分析的精確度。
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| | NICOMP 380 N3000 納米粒徑分析儀產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
| 檢測(cè)范圍 | 0.3 nm -10 μm | | 測(cè)量 | 無(wú)需校準(zhǔn) | | 應(yīng)用領(lǐng)域廣 | 檢測(cè)速度快 | | 靈敏度高 | 對(duì)團(tuán)聚粒子靈敏度高（D6） | | 功能全面 | 使用簡(jiǎn)捷 | | 復(fù)合型算法 | 高斯（Gaussion）單峰算法與的Nicomp多峰算法結(jié)合 | | 模塊化設(shè)計(jì) | 可同機(jī)搭載ZETA電位檢測(cè)模塊，還可增加自動(dòng)稀釋和自動(dòng)滴定等輔助測(cè)試模塊 | |
工作原理：
動(dòng)態(tài)光散射原理
Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動(dòng)態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來(lái)獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過(guò)一定波長(zhǎng)的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會(huì)互相干涉從而影響散射強(qiáng)度，散射強(qiáng)度隨時(shí)間不斷波動(dòng)，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴(kuò)散現(xiàn)象（或布朗運(yùn)動(dòng)）導(dǎo)致光強(qiáng)不斷波動(dòng)。光強(qiáng)的變化可以通過(guò)探測(cè)器檢測(cè)得到。使用自相關(guān)器分析隨時(shí)間而變的光強(qiáng)波動(dòng)就可以得到粒度分布系數(shù)（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個(gè)指數(shù)衰減函數(shù)，由此可以很容易通過(guò)衰減時(shí)間計(jì)算得到粒子擴(kuò)散率。最終，粒子的半徑可以很容易地通過(guò)斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計(jì)算得到。
如下是Nicomp 380納米粒徑分析儀的檢測(cè)原理簡(jiǎn)圖：
大部分樣品一般都不均勻，往往會(huì)呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)，即測(cè)出來(lái)的粒徑正態(tài)分布范圍會(huì)比較大，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成，每一個(gè)指數(shù)衰減函數(shù)都會(huì)因指數(shù)衰減時(shí)間不同而存在差異，此時(shí)計(jì)算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡(jiǎn)單。
Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運(yùn)用了去卷積算法來(lái)轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)，從而得出真實(shí)值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測(cè)試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，利用一組的去卷積算法將簡(jiǎn)單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司的粒徑分布表達(dá)方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。
有些儀器的高斯分析模式可以使用基線(xiàn)調(diào)整參數(shù)的功能，以此來(lái)補(bǔ)償測(cè)試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問(wèn)題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式"或者“囊泡重量模式"來(lái)分析帶有小囊泡的膠體體系，比如脂質(zhì)體。
Nicomp分析方法是一種的高分辨率的去卷積算法，它在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計(jì)粒徑分布。在歷已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠精確分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系（比如 2：1比例），甚至是三峰樣品分散體系。在科學(xué)研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。
儀器參數(shù)：
| 粒徑檢測(cè)范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10 μm |
| 數(shù)字相關(guān)器通道數(shù) | 1024 |
| 分析方法 | 動(dòng)態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 Nicomp 無(wú)約束自由擬合多峰算法 |
| pH值范圍 | 2 - 12 |
| 溫度范圍 | 2℃ - 90 ℃ |
| 激光光源（可選） | 5 mW氦氖光源； 15 mW, 35 mW,50 mW激光光源； 100 mW激光光源（紅）； 20 mW，50 mW，100 mW激光光源（藍(lán)/綠） |
| 檢測(cè)角度（可選） | 90°或 多角度（10°- 175°，可選配） |
| 檢測(cè)器（可選） | PMT（光電倍增管）， CMP（4倍增益放大） APD雪崩二極管（7倍增益放大） |
| 高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
| 可用溶劑 | 水相,絕大多數(shù)有機(jī)相 |
| 樣品池 | 標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）； 1mL樣品池（玻璃，高透光率微量樣品池，最小進(jìn)樣量10μL） |
| 選配模塊 | ZETA電位模塊（高頻相位分析技術(shù)，PALS） 高濃度背散射；自動(dòng)稀釋模塊，自動(dòng)進(jìn)樣器，多角度檢測(cè)器，高能激光發(fā)生器，高增益檢測(cè)器，21CFR PART11規(guī)范軟件，在線(xiàn)模塊。 |
| 分析軟件 | Windows 兼容軟件； 符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件（可選） |
| 驗(yàn)證文件 | 有 |
| 電壓 | 220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
| 計(jì)算機(jī)配置要求 | Windows XP及以上版本windows操作系統(tǒng)，40Gb硬盤(pán)，1G內(nèi)存，光驅(qū)，USB接口，串口（COM口） |
| 外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
| 重量 | 約26kg（與配置有關(guān)） |
應(yīng)用領(lǐng)域：
NICOMP 380N3000納米粒徑分析儀廣泛適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。
1）磨料
磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。
2）化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP SLURRY)
化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過(guò)程中的重要步驟。化學(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過(guò)程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì)，對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行。
3）陶瓷
陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛，從磚瓦到生物科研材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過(guò)程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。
4）粘土
粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類(lèi)似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。
5）涂料
涂料種類(lèi)繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。
6）污染監(jiān)測(cè)
粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用，產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范，必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行，以保證產(chǎn)品滿(mǎn)足質(zhì)量要求。
7）化妝品
無(wú)論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)。化妝品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。
8）乳劑
乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類(lèi)型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見(jiàn)的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過(guò)程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期。
9）食品
食品的原料（粉末及液體）通常來(lái)源于不同的加工廠(chǎng)，不同來(lái)源的原料必須滿(mǎn)足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制（QA/QC）的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。
10）液體工作介質(zhì)/油
液體工作介質(zhì)（如：油）越來(lái)越昂貴，延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問(wèn)題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中（如：油浴潤(rùn)滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)），因此需要一種方法來(lái)確定介質(zhì)（油）的更換周期。通過(guò)監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命。
11）墨水
隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，打印機(jī)用的墨水變得越來(lái)越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過(guò)研磨方法制得的，可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過(guò)程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。
12） 膠束
膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過(guò)某一臨界值后，其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒，這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。
乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等
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