● 適用晶圓尺寸:6 寸及以下晶圓,同時(shí)兼容不小于 10mm×10mm 的碎片
● 適用晶圓厚度:100μm ~ 1000μm 厚度的晶圓的激光退火
● 激光模式:UV-YAG 激光器,波長 355nm
● 激光器脈沖寬度:60ns(@20kHz)
● 激光器標(biāo)準(zhǔn)壽命:20000h
● 激光束尺寸:Φ100um ± 5um
● 激光掃描方法:Galvano 高速掃描方式,光斑在掃描方向上的重疊率、行與行之間的重疊率均可調(diào)節(jié)
● 工藝腔室:室溫,工藝腔室用 N2 或 Ar 氛圍保護(hù),帶有氧氣濃度監(jiān)控,通過軟件控制實(shí)現(xiàn)氧氣濃度達(dá)到 100ppm 以內(nèi)才啟動(dòng)工藝的功能
● 生產(chǎn)能力:>4wph@6inch(光斑在掃描方向上的重疊率 67、行與行之間的重疊率 50% 的條件下)
● 非照射面溫度抑制:加工過程中,非照射面的溫度 ≤ 100℃
● 選擇性退火功能:可通過電腦軟件控制,對(duì)晶圓/樣片進(jìn)行分區(qū)域不同條件選擇性激光退火
用戶的課題
● 兼顧晶圓薄片化及生產(chǎn)性的光源選定
● 針對(duì) SiC 功率器件薄片化應(yīng)用下光源(Green/UV)帶來的熱損傷
● SiC 功率器件的熱損傷與生產(chǎn)性之間的平衡
已解決問題、可達(dá)成目標(biāo)
● 通過模擬實(shí)驗(yàn)對(duì)照射條件的事先研究
● 驗(yàn)證照射測試的模擬實(shí)驗(yàn)結(jié)果,提案理想條件
● SiC 用激光退火設(shè)備光源選定之要點(diǎn)
激光光源選定時(shí)的要點(diǎn)
器件的厚度
● Green 激光相較于 UV 激光,因?yàn)閷?duì)于金屬來說吸收率較低,作為退火條件,要求用較高的輻射強(qiáng)度進(jìn)行照射。因此一般情況下,對(duì)于比 100~120μm 更薄的器件,更容易受到熱影響。

激光對(duì)SiC的穿透深度
● 對(duì) SiC 晶圓進(jìn)行激光照射時(shí),不同波長會(huì)導(dǎo)致穿透深度產(chǎn)生差異。使用 Green 激光時(shí),激光穿透至表面(圖案面)。這使得成膜工序中金屬膜(Ni/Ti)有缺陷時(shí),便有圖案被破壞的風(fēng)險(xiǎn)。

金屬膜(Ni)的吸收率
● 激光的波長不同,金屬膜的吸收率也有所不同。若要求同樣的退火結(jié)果,反射率低(=吸收率高)只需投入較少能量。反之能量投入越多,越容易對(duì)器件產(chǎn)生熱影響。

生產(chǎn)性
● 基于器件結(jié)構(gòu)和金屬的成膜條件,其照射條件將有所不同,一般情況下,Green 激光的生產(chǎn)性比 UV 激光高出 2.5~3倍。
