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上海德竹芯源科技有限公司
這款配有自動輸送機的低成本立式爐管可用于從研發到批量生產 4 至 8 英寸晶圓的一系列功能。提供超高溫處理,非常適合功率器件制造。
概述
該立式爐管可用于 4 英寸到 8 英寸的各種晶圓大小,并可選擇小批量處理 50 至 75 片一體式。該立式爐管通過精心選擇硬件和控制系統組件來實現低價,可用于從研發到批量生產線等眾多功能。從 LGO 加熱器、二硅化鉬 (MoSi2) 加熱器和碳加熱器中選擇使用一款合適的加熱器,不僅可用于低溫退火、氮化物 (Si3N4)、多晶硅和其他材料 LPCVD、氧化和擴散處理,還可用于 SiC 功率器件柵硅氧氮化、活化退火和其他超高溫處理工藝。
特性
● 面向后端用戶的低成本設備
● 小批量、50 至 75 片一體式處理可用于研發及批量生產線
● 提供 4 至 8 英寸晶圓尺寸
● 最多 4 個晶盒儲料器
● 使用 LGO 加熱器,從低溫到中高溫都能實現出色的溫度控制
● 使用單片式機械手臂實現晶圓高速傳送
● 配備功能有限的簡單控制系統
規格
外部尺寸:W1200 × D1450 × H2610 mm
加熱器:LGO加熱器
均熱區長度:至 360 mm
晶圓大小:4 至 8 英寸
可放置晶圓的數量: 75 片一體式(8 英寸為 50 片一體式)
I/O端口:4
晶盒儲料器數量:4
手指:單片式
選配:
強制冷卻系統
N2 置換室
可轉換晶圓大小
規格
外部尺寸:W1200 × D1450 × H2610 mm
加熱器:LGO加熱器
均熱區長度:至 360 mm
晶圓大小:4 至 8 英寸
可放置晶圓的數量: 75 片一體式(8 英寸為 50 片一體式)
I/O端口:4
晶盒儲料器數量:4
手指:單片式
選配:
強制冷卻系統
N2 置換室
可轉換晶圓大小
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