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R-200 Advance 原子層沉積系統

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具體成交價以合同協議為準

產品型號R-200 Advance

品       牌

廠商性質其他

所  在  地上海

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更新時間：2024-04-07 09:38:41瀏覽次數：56次

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經營模式：其他

商鋪產品：157條

所在地區：上海上海

產品簡介

Picosun R-200 系列原子層沉積系統是一款多功能的原子層沉積平臺，是用于研發的理想選擇，適用于 IC 器件、MEMS 器件、顯示器、LED、激光器以及透鏡、光學部件、珠寶、硬幣、醫療植入物等 3D 部件的研發。

詳細介紹

● 適用 2 - 8 inch 晶圓，156mm × 156mm 太陽能硅片

● 可適用于多孔，通孔，高深寬比樣品（可達 1 : 2500）

● 工藝溫度：50 - 500℃

● Advance 型號配有等離子處理系統，工藝溫度 450℃（可選配特定chuck盤至 650℃）

● 適用鍍膜種類：Al2O3，TiO2，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，ZrO2，AlN，TiN，Pt，Ir 等

● 手動上料，可選配機械臂，搬運機器人或 Cassette-to-Cassette 上料

● 前驅體種類：液體、固體、氣體、臭氧源、等離子體等


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