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SENTECH-沉積刻蝕多腔互聯系統

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品       牌

廠商性質其他

所  在  地上海

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更新時間：2024-04-07 09:41:04瀏覽次數：60次

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所在地區：上海上海

產品簡介

SENTECH 多腔系統包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用于三至六個端口。可使用多達兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可配備多種選擇。

詳細介紹

沉積刻蝕多腔互聯系統

RIE&CVD Cluster System

● 高產能：等離子蝕刻和沉積腔體可與多達兩個片盒站組合，用于到 200 mm 晶片的高產量工藝。

● 研發：三到六個端口傳送腔室可用于集成 ICP 等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD 和 ICPECVD 沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可通過預真空室和/或真空片盒站加載。

● 高質量的多腔系統：ICP-RIE 等離子刻蝕腔體可與兩個片盒站組合用于 200mm 晶片的高產量并行工藝。

● ICP-RIE，RIE，PECVD 和 ICPECVD 等腔體可與預真空室，片盒站等組合使用，以滿足研發的特殊要求。

● SENTECH 多腔系統包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用于三至六個端口。可使用多達兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可配備多種選擇。

● 用于研發的 SENTECH 多腔系統通過圖形用戶界面控制軟件操作。強大的控制軟件可用于工業領域高產量的多腔系統。


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