SENTECH-電感耦合等離子刻蝕機 - (SI 500)

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產(chǎn)品型號SI 500

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廠商性質(zhì)其他

所在地上海

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更新時間：2024-04-07 09:44:46瀏覽次數(shù)：165次

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  半導體工藝設備

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上海德竹芯源科技有限公司

經(jīng)營模式：其他

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產(chǎn)品簡介

SI 500 基于 ICP 等離子體源 PTSA，動態(tài)溫度控制的襯底電極，全自動控制的真空系統(tǒng)，使用遠程現(xiàn)場總線技術的的 SENTECH 控制軟件和用于操作 SI 500 的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是 SI 500 主要的設計特點。

詳細介紹

電感耦合等離子體刻蝕設備

Inductively Coupuled Plasma Reactive Ion Etching - ICPRIE

SI 500 基于 ICP 等離子體源 PTSA，動態(tài)溫度控制的襯底電極，全自動控制的真空系統(tǒng)，使用遠程現(xiàn)場總線技術的的 SETECH 控制軟件和用于操作 SI 500 的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是 SI 500 主要的設計特點。可用于加工各種各樣的襯底，從直徑高達 200 mm 的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預真空室保證穩(wěn)定的工藝條件，且切換工藝非常容易。通過配置可用于刻蝕不同材料，包括但不于例如三五族化合物半導體 (GaAs, InP, GaN, InSb)，介質(zhì)，石英，玻璃，硅和硅化合物 (SiC, SiGe)，還有金屬等。 SENTECH 提供用戶不同級別的自動化程度，從真空片盒載片到一個工藝腔室到六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng)，目標是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 ICP 等離子刻蝕機也可用作多腔系統(tǒng)中的工藝模塊。

設備主要特點：

● 自主研發(fā)的ICP等離子源：三螺旋平行板天線 (PTSA) 等離子源是 SENTECH 等離子體工藝設備的屬性。PTSA 源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能，非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

● 高速刻蝕：對于具有高深寬比的高速硅基 MEMS 刻蝕，光滑的側(cè)壁可通過室溫下氣體切換工藝或低溫工藝即可很容易地實現(xiàn)。

● 低損傷刻蝕：由于離子能量低，離子能量分布帶寬窄，因此可以用等離子體刻蝕機 SI 500 進行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。

● 動態(tài)溫度控制：在等離子體刻蝕過程中，襯底溫度的設定和穩(wěn)定性對于實現(xiàn)高質(zhì)量蝕刻起著至關重要的作用。動態(tài)溫度控制的 ICP 襯底電極結(jié)合氦氣背冷和基板背面溫度傳感，可在 -150°C 至 +400°C 的廣泛溫度范圍內(nèi)提供優(yōu)良的工藝條件。

應用展示：