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上海德竹芯源科技有限公司
EVG 620NT 光刻機主要應用于半導體、微電子、光電、生物醫療等領域,用于生產精密電子元件、微型機械元件和光學元件等。
主要特點及參數
● 高效率:采用的光學技術,縮短了生產周期,提高了生產效率
● 高精度:通過對光學系統的精細調整,保證圖像的精確性
● 易操作:系統控制簡單方便,易于生產操作
● 設備安全:系統采用安全設計,確保生產過程中的人員和設備安全
● 技術支持:提供專業的技術支持和售后服務,保證系統的正常使用
● 光刻材料:支持多種光刻材料,包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等
● 半導體工藝:支持常用的半導體工藝,如薄膜沉積、光刻、蝕刻等
● 光刻工具:支持常用的光刻工具,如光刻掩膜、光刻模板等
● 分辨率:可達到 100 nm
● 工作面積:620 mm × 620 mm
● 光源:KrF 激光
● 光路系統:F-Theta 鏡
EVG 620NT 光刻機的工藝過程大致如下:
1. 材料準備:選擇適當的光刻材料,如硅片、玻璃片等,進行表面處理
2. 掩膜制作:根據生產要求,制作光刻掩膜,并確保掩膜的精確性
3. 樣品處理:將樣品固定在工作臺上,并確保樣品的穩定性
4. 光刻操作:打開光刻機,根據生產要求,對樣品進行光刻處理
5. 樣品檢查:檢查樣品的質量,確保其符合生產要求
● 分辨率:可達到 100 nm
● 工作面積:620 mm × 620 mm
● 光源:KrF 激光
● 光路系統:F-Theta 鏡
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