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深圳市瑞美德科技有限公司
Mas-Q-Check由Palas開發,用于在使用前對防護面罩進行快速、簡單但有意義的測試。呼吸器提供的防護程度取決于口罩材料的過濾效果以及頭部的正確貼合度否則可能發生泄漏(即空氣通過材料并在未經過濾的情況下進入面罩后面),從而影響保護效果。通過使用Mas-Q-Check對標準頭進行測試,可以同時模擬兩種效果,并測量面罩對外部空氣中顆粒物的實際保護效果。
Mas-Q-Check由Palas開發,用于在使用前對防護面罩進行快速、簡單但有意義的測試。呼吸器提供的防護程度取決于口罩材料的過濾效果以及頭部的正確貼合度否則可能發生泄漏(即空氣通過材料并在未經過濾的情況下進入面罩后面),從而影響保護效果。通過使用Mas-Q-Check對標準頭進行測試,可以同時模擬兩種效果,并測量面罩對外部空氣中顆粒物的實際保護效果。
Mas-Q-Check在吸氣模式下工作,體積流量為9.5升/分鐘或95升/分鐘,根據EN149或EN143定義,對應于人體**呼吸量。通過高分辨率氣溶膠光譜儀測量140nm至1μm前后的顆粒污染(顆粒大小和數量), 設備自動切換并確定防護面罩后面的顆粒污染值,這可以自動重復幾次。兩個測量值的比率用于確定防護面罩的防護等級。因此,通過Mas-Q-Check,可以在1分鐘內自動對進行安全的現場測試。
1
特點
? 全自動測試
? 日常使用口罩的質量控制
? 結合過濾效率和泄漏,重新評估防護等級
? 現場快速、簡便、準確地測量口罩的防護等級
? 區分病毒和細菌大小范圍及以上的防護等級
? 在140 nm至1µm范圍內的高分辨率測量結果
? 與FFP等級相比,評估防護等級,可選顯示粒度
2
應用
? 口罩防護等級的確認
? 確認在醫療環境中工作的員工的保護
? 在FFP等級的比較中評估實際保護程度
? 直接測量防護等級,展示正確使用口罩的培訓
3
技術參數
測量范圍(粒徑) | 0.14 – 10 μm |
測量原理 | 光學光散射 |
測量范圍(數量 CN) | 0 – 20,000 顆粒/厘米3 |
數據采集 | 數字,20 MHz 處理器,256 個原始數據通道 |
功耗 | 約 200 W |
用戶界面 | 觸摸屏,800 ? 480 像素,7 英寸(17.78 厘米) |
體積流量 | 9.5升/分鐘, 95升/分鐘 |
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