簡單型透射偏光熔點儀 XPR-200詳細技術參數
一、儀器的用途
透射熱臺偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子等專業的專業實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀態和各種變化。
專為材料學、生物化學、冶金學、有機化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結晶過程中的形態,結晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態觀察；地質材料偏光形態觀察；無機晶體材料觀察,特別對含有結晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。
二、技術參數
1.目鏡
2.物鏡
| 類別 | 放大倍數 | 數值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
無應力平場
消色差物鏡 | 4X | 0.1 | 17.5 |
| 10X | 0.25 | 6.6 |
| 40X | 0.65 | 0.64 |
| 100X | 1.25 | 0.19 |
3.光學放大倍數：40X 100X 400X 1000X
4.目鏡管：轉軸式（傾斜30°）360°旋轉 含檢振片
5.起振片：可轉動蕩
6.載物臺：機械式附加旋轉臺面 尺寸 φ100mm， 360°旋轉
7.調焦機構：粗微動同軸，齒輪轉動 ， 帶限位及調節松緊機構
8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調
9.光源：鎢鹵素燈6V/20W，亮度可調
10.防霉系統：防霉
11.成像系統:配置日本JVC高像素CCD,像素達47萬；
12.高精熔點測定儀(具體參數見熔點儀資料)
①電壓：220V±10%,AC45－60HZ
②溫度設定方式：數字顯示、預置
③溫度控制范圍：室溫-300℃
④溫度精度：±1℃； 控制精度：±1%
⑤測試量：小于0.1mg
⑥系統工作環境溫度：15－40℃
三、系統組成
電腦型 (XPR-200V)：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D(圖像采集) 5.N型熱臺
數碼型 (XPR-200D)：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數碼相機 4.N型熱臺
四、總放大參考倍數
XPR-200V型：40--4000倍 XPR-200D型：100--2000倍
五、選購件
1．目鏡：16X(Φ11mm) 2．物鏡：20X 60X 80X 4. 圖像測量軟件
