CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

詳細介紹

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甘草粉碎需要浸泡的時間比較長，而且甘草比較難打細，對普通現有的設備來說，這是一個難點。上海依肯根據客戶的分散要求，*使用CMD2000研磨分散機，分散之后的粒徑在1mm一下，縮短了浸泡時間，大大提高了甘草的回收利用率。

甘草研磨分散機的工作原理：CMD研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

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CMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMD2000系列設備選型表

型號	流量 L/H	轉速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。