納米粉體研磨分散機，納米粉體分散設備，納米粉體分散機，納米粉體分散機，納米粉體高速剪切分散機，納米研磨分散機，納米分散機
納米粉體的分散是基礎研究領域和工業技術部門普遍遇到的課題，其應用日益廣泛，如化工、醫藥、涂料、材料、食品等。分散技術不僅是提高產品質量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術手段。
但是由于納米粉體粒度小，極易產生自發凝并，表現出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結果導致納米粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質復合材料，是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設備應運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產的產品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。
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目前對于納米粉體的分散，一般采用以下幾種設備：
一、超聲分散機，超聲方式分散，對于小批量的物料還行，但無法放大生產。
二、機械攪拌分散機，這種在工業化分散中比較常見，但是由于自身的結構，轉速低，分散有死角，導致zui終分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散機，這種分散機適合高粘度的物料的分散，電機功率大，但是也存在和機械攪拌分散機一樣的問題，分散效率低，效果差。
隨著納米粉體分散的進一步發展，上海IKN研發出的分散設備-研磨分散機。結構為膠體磨頭+分散頭定轉子，先研磨打開團聚體，在瞬時通過分散工作組進行分散，分散效率快，分散效果好。
IKN研磨分散機在納米粉體的分散中有著突出的應用和優勢，如納米*、納米*、石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹脂、納米涂料、醫藥納米混懸液等都有著成功的經驗和案例。
IKN研磨分散機的研發初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中，二次團聚的問題。CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列納米粉體研磨分散機的結構：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列納米粉體研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
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