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一氧化硅

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更新時間:2017-07-20 00:49:20瀏覽次數:667次

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產品簡介

“一氧化硅"均附有使用說明書,質量要求,有效期和裝量等。

詳細介紹

一氧化硅 基本信息:

Cas號 分子式 分子量 別名
10097-28-6 SiO 44.08 一氧化硅

說明介紹:

性狀 塊狀為黑色甲殼狀不規則塊體。粉體為紅褐色粉末。溫度高于 700 ℃時 易氧化, 700 ℃ 以下溫度性質穩定,不和除 HF 外的任何酸反應,不溶于堿和水。溶于稀氫氟酸和硝酸的混酸。 
  性脆結構致密。溫度高于 1180 ℃時 為非穩定狀態極易歧化為 Si 和 SiO 。在空氣中加熱時生成白色的二氧化硅粉末。由純度99.5%的二氧化硅粉末與煤瀝青粉末(或硅粉)以C/SiO2=1.3或Si/SiO2=1.2配比混合,放入電加熱的真空爐,注入非氧化性氣體(如氬、氫等氣體),高溫反應,制得超細(0.1/μm以下)無定形氧化硅。極富有活性。固態可作絕緣材料。 
質量標準  
  99.99% metals basis,200目:
外觀Appearance                          暗灰色或棕色粉末
純度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
X-射線衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
ICP Assay                               Confirms silicon component
痕量金屬雜質trace metallic impurities   ≤200ppm by ICP Atomic emission
粒徑particle size                       200mesh
鍍膜級,99.99% metals basis,3.5-5 mm
純度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
X-射線衍射X-Ray Diffraction             Conforms to Structure
ICP Assay                               Confirms silicon component
痕量金屬雜質trace metallic impurities   ≤200ppm by ICP Atomic emission
粒度particle size                        3.5-5 mm
貯存 嚴禁潮濕和高溫地點存放。
用途 作為精細陶瓷原料具有重要價值。也可在真空中將其蒸發,涂在光學儀器用的金屬反射鏡上作保護膜。還可用于制造半導體材料。也用于光學玻璃。

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