產品介紹：P-20R 卷對卷等離子刻蝕系統
P-20R卷對卷等離子系統是一款專門配備連續給料驅動的等離子系統，適用于連續柔性基片及卷裝材料。 卷對卷等離子系統可以喂入寬幅為50.8毫米至609毫米，軸徑為254毫米的成卷材料。
卷對卷等離子刻蝕系統縱覽
卷對卷等離子刻蝕系統提供較高的重復性、可靠性、長壽命，以及維護成本低等特點。 反應離子刻蝕（RIE）電極提供了*的定向等離子體刻蝕效果。
在大型全鋁真空艙內進行卷對卷等離子刻蝕，艙內可容納較大等離子處理空間。
卷對卷等離子刻蝕系統特點
配備的標準真空泵是特別準備氧氣服務，是一款全備氮氣N2吹掃功能的卷對卷等離子刻蝕系統；可防止任何腐蝕性殘留物質在真空泵內形成，從而延長了真空泵的使用壽命，減少了維護周期。 等離子處理成卷材料，無論大小，PTFE，聚酰胺，軟硬結合電路，你會發現所有這些材料均被均勻地蝕刻和清洗，等離子處理完畢以備下一個生產工藝步驟使用。
簡單易用，直觀的觸摸屏界面提供等離子操作界面，控制等離子刻蝕的各個方面，確保等離子工藝的可靠性和重復性。
P-20R卷對卷等離子體系統一般是用來等離子體處理成卷材料。 處理材料運輸裝置配有制動系統，張力控制和速度控制單元。 雙微機操作控制系統控制記錄等離子工藝參數及控制操作，另外控制材料運輸裝置參數。卷對卷等離子刻蝕系統占板面積會根據材料運輸裝置的情況有所不同。
卷對卷等離子刻蝕系統規格
標準卷對卷等離子刻蝕系統特點
電極設置：水平定向RIE（反應離子刻蝕） 183厘米水平電極；
射頻電源：3000瓦@13.56MHz射頻電源，自動匹配網絡；
工藝過程溫度控制：677攝氏度~1649攝氏度；
工藝氣體控制：雙通道0-2000 CC /分鐘 質量流量控制器 （MFC）；
氣壓監控：多達4通道低氣體報警器；
真空監測系統：皮拉尼真空計0-1托；
控制器系統：微處理器系統，多序列存儲功能；
真空泵浦系統：59CFM氧氣服務真空泵系統；真空泵增壓風機355 CFM ，配備3微米真空泵油濾芯，自動氮氣N2吹掃功能；可控N2（氮氣）真空艙吹掃流量；真空泵油霧分離器；
雙處理序列；
卷對卷等離子刻蝕系統配套卷裝材料運送單元
開環張力控制驅動電機，配備磁粉離合器；
閉環速度控制鐵磁流體真空饋通；
卷數記，線速度，張力設定點手動或自動的慢跑/速度控制；
卷對卷等離子刻蝕系統規格
電源：220 VAC/1/50Hz
系統重量（等離子刻蝕系統/真空泵）900/70公斤
等離子刻蝕系統外部尺寸：305cm X 115cm X 200cm
真空泵外部尺寸： 41cm X 76cm X 43cm
卷對卷等離子刻蝕系統設備外部安裝要求
壓縮空氣:0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
卷對卷等離子刻蝕系統環境溫度：29攝氏度
卷對卷等離子刻蝕系統工藝氣體：0.17~0.21MPa,
閉環冷卻水源
卷對卷等離子刻蝕系統其它可選配置
計算機控制系統/觸摸屏數據報告、事件查看、打印；
信號燈塔；
干式真空泵79/355 CFM
真空節氣門控制器；
質量流量控制器，zui多達4通道；
根據客戶的規格定制真空艙和電極
卷對卷等離子刻蝕系統其它可選配置
冷卻水再循環閉環
煙氣洗滌塔填料床
壓縮空氣干燥機（吹掃氣體發生器）
如果您對該卷對卷等離子刻蝕系統感興趣，請隨時。
天域實驗器材營銷服務中心
（美國GIK等離子系統*經銷商）
：Emily
：,2651297
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