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北京市卓川電子科技有限公司
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微波CVD薄膜制備裝置驗儀由機械泵、玻璃油擴散泵、真空測量、真空蒸鍍室、電控系統及測量儀表等組成。由機械泵、玻璃油擴散泵、真空測量、真空蒸鍍室、電控系統及測量儀表等組成。
產品為一高效微波等離子體化學氣相沉積制備設備，可用于生長金剛石薄膜、碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生長速度快、操作簡便、性價比高等優點。適合大學物理、材料、化學等領域的學生實驗及教師科學研究。
設備規格配置：
| DH2008 | DH2008A | DH2008K | DH2008F |
沉積室 | Φ50×300mm石英玻璃真空室 | |||
微波功率 | 0～800W連續可調輸出 | |||
微波傳輸模式 | TE10模式傳輸 | |||
真空系統 | 機械泵 | 機械泵 | 機械泵+擴散泵 | 機械泵+分子泵 |
極限真空 | 6.7×10-1Pa | 6.7×10-1Pa | 5×10-3Pa | 5×10-4Pa |
恢復真空 | 2Pa | 2Pa | 9×10-3Pa | 2×10-3Pa |
進氣系統 | 二路轉子流量計 | 四路轉子流量計 | ||
壓力測量 | 壓強測量儀 | |||
真空測量 | 數顯電阻真空計 | 數顯電阻真空計 | 數顯復合真空計 | 數顯復合真空計 |
特殊規格可定制
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