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天津多為萊博科技有限公司
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LT3B-OM恒溫器專為UHV顯微拉曼設計，可烘烤至150℃，所有法蘭通用銅片密封。也適用于其它各類低振動要求的光學顯微實驗。窗口專為科學實驗而設計，可現場更換。
典型應用
• 光學顯微
• 顯微拉曼
• 量子點
• 光致發光
• 顯微-光致發光
• 光電實驗
• 磁光實驗
典型特點
• 連續可調樣品高度
• 1.52英寸的高度
• 納米級振動
• 液氦流
• 基質熱交換
• 同軸流屏蔽層流
• 4 K 液氦操作 (泵抽可達1.7 K)
• 4.2K下液氦消耗率為0.7 LL/hr
• 兼容液氮(77 K操作)
• 流量控制
標準結構
• LT3-OM冷臺
• 同軸流動液氦傳輸管線
• 不銹鋼儀表群
• 杜瓦置適配器
• 流量板面用于液氦流速控制及優化
• 鎳鍍金無氧銅防熱輻射屏
• 供溫度測試和控制的儀表群：
• 10 針密封電學接頭
• 36 歐姆片狀加熱器
• 為控溫而備的精度為± 0.5 K的硅二極管溫度計
• 精度為±12 mK的校準型硅二極管溫度計(帶4英尺線纜供樣品的測試）
• 用于光學實驗的平板樣品座
• 溫控儀
可選配置及升級選項
• 傳輸升級
• 為于磁體室溫孔匹配
• 液氦傳輸管線
• 高溫臺
• 更高溫臺
• 可定制溫度計結構
• 可定制接線結構
• 可定制窗口材料
• 可定制樣品座
技術參數
冷卻技術 | |
LT3B | 開環制冷，Helitran |
制冷方式 | 液氦流 |
制冷劑 | 液氦，可兼容液氮 |
溫度 | |
LT3B | < 4.2K - 350K (泵抽情況下<2K) |
加800K高溫臺 | （溫+2K）-700K |
加450K高溫臺 | 溫-450K |
溫度穩定性 | 0.002K |
樣品空間 | |
直徑 | 大，開放式防熱輻射屏 |
高度 | 大，開放式防熱輻射屏 |
恒溫器型號 | LT3B | |
制冷劑 | 液氦 | |
溫度 | 4.2K | 泵抽情況下<2K |
4.2K下液氦消耗 | 0.7LL/hr |
|
制冷量 | 0.7LL/hr | 2LL/hr |
4.2K | 0.5W | 1.5W |
20K | 3.0W | 8.0W |
50K | 7W | 20W |
制冷時間 | 20分鐘 | |
結構圖
典型案例
 |
麻省理工學院的Comin實驗室，LT3B OM低溫恒溫器安裝在兩維移動平臺上用于樣品校準。 |
|
裝在Horiba拉曼光譜儀上的用于超高真空環境的LT3B-OM |
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