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產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地蘇州市
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更新時(shí)間：2024-09-28 11:36:27瀏覽次數(shù)：108次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 智慧城市網(wǎng)該設(shè)備采用的濺射方式，鍍膜均勻、干凈。樣品溫度受控，貴金屬靶材利用率高。四靶均配有擋板，并配有驅(qū)動(dòng)裝置可手動(dòng)打開(kāi)。樣品架采用行星輪結(jié)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)樣品的定點(diǎn)自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)同時(shí)進(jìn)行。樣品可進(jìn)行射頻反濺，也可加偏壓。
產(chǎn)品描述
該設(shè)備采用的濺射方式，鍍膜均勻、干凈。樣品溫度受控，貴金屬靶材利用率高。四靶均配有擋板，并配有驅(qū)動(dòng)裝置可手動(dòng)打開(kāi)。
樣品架采用行星輪結(jié)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)樣品的定點(diǎn)自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)同時(shí)進(jìn)行。樣品可進(jìn)行射頻反濺，也可加偏壓。
技術(shù)參數(shù)
1．腔室尺寸：Φ（600-800）×450（根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整）；
2．空載極限真空：3×10-4Pa
3．工作本底真空：8×10-5Pa；
4．樣品架一次可承載3-40塊80×13×0.5的樣品；
5．濺射靶：采用長(zhǎng)方形靶；
6．薄膜均勻性：±10%。
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