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微裂紋密度儀MDS405

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品       牌

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更新時間:2024-06-02 09:27:50瀏覽次數:59次

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產品簡介

微裂紋密度儀MDS405倒置金相顯微鏡觀察鍍層表面微裂紋,并將微裂紋鍍鉻工藝電流效率可達22.1%,鍍鉻層裂紋密度為1320條/cm、硬度為789.3HV。

詳細介紹

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微裂紋密度儀MDS405

倒置金相顯微鏡觀察鍍層表面微裂紋,并將微裂紋鍍鉻工藝電流效率可達22.1%,鍍鉻層裂紋密度為1320條/cm、硬度為789.3HV。

產品內容

電鍍微裂紋硬鉻的工藝參數和添加劑對鍍層裂紋長度、深度和密度的影響。

借助倒置金相顯微鏡觀察鍍層表面微裂紋,并將自行研發的1微裂紋鍍鉻工藝微裂紋鍍鉻工藝電流效率可達22.1%,鍍鉻層裂紋密度為1320條/cm、硬度為789.3HV。

鉻是一種略帶藍色的銀白色金屬,在空氣中,鉻很容易氧化而生成一層很薄的致密氧化膜。這層膜有很好的機械強度,并且透明,使金屬鉻能長時間保持光澤。鉻的化學穩定性較好,很多酸對它不起作用,且具有硬度高、耐磨、反光性能好的特征,這是許多金屬不能與之相比的,所以鍍鉻工藝被廣泛地應用在工業產品和日用產品的裝飾及保護等方面。但鍍鉻工藝有其固有的特性,鍍鉻層存在細微孔隙和裂紋,不能起到對基體材料的保護作用,針對鍍鉻工具發生銹蝕及鉻層脫落等問題進行研究分析,并提出應對的工藝方法和措施,確保鍍鉻層對工具的有效保護。

防護裝飾性鎳-鉻或銅-鎳-鉻鍍層體系中,鉻層的結構與這一體系的耐蝕性能有著極為重要的關系。六十年代以來,國外電鍍工作者對鉻層的結構特性進行了大量的卓有成效的研究工作。其中微裂紋鉻(micro-cracked chromium)和微孔鉻(micro-porous chr-omium)工藝在生產上得到廣泛應用。這兩種鍍鉻工藝稱為微間斷鉻

1586年德國人發明了從鉻的溶液中沉積金屬鉻的方法,1926年美國人發明從含硫酸的鉻酸溶液中沉積出光亮鉻的傳統鍍鉻技術,1985年美國、德國等幾個國家的專家同時提出不含氟化物的新一代高效微裂紋鍍鉻工藝。我國的鍍鉻技術已經由原來的傳統鍍鉻工藝,逐步轉化為現在的微裂紋鍍鉻工藝,零件的產品質量發生了質的飛躍。

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微裂紋密度測定方法1.png微裂紋密度測定方法2.png微裂紋密度測定方法3.png


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